No. |
業績 年度 |
大学区分
(細目) |
題目 |
学会・シンポジウム等の名 |
国内
国際 |
主催
企画団体名 |
発表年月 |
単独
共同 |
代表者 |
主発表者 |
共同
者数 |
1 |
2011 |
一般発表 |
High electric insulation resistant and hard protective waterproof coating on metal foil for flexible solar cell and smart paper |
2011 MRS Fall Meeting Symposium |
国際 |
Material Research Society |
2011年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
2 |
2011 |
一般発表 |
Adhesion and coating with photo-oxidized silicone oil for deep ultraviolet optic materials |
43th Annual Laser Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2011年9月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
3 |
2011 |
招待講演 |
Relation between Carbon Contamination and Oxidizer of SiO2 Thin Film Fabricated by Deep UV Photo-oxidation of Silicone Oil |
NASA 2011 Contamination, Coatings, and Materials Workshop |
国際 |
NASA Goddard Space Flight Center |
2011年7月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
4 |
2010 |
一般発表 |
Plasma pretreatment effect for photo-oxidized coating and adhesion to optical glass surface |
2010 MRS Fall Meeting Symposium |
国際 |
Material Research Society |
2010年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
5 |
2010 |
一般発表 |
Plasma pretreatment effect for photo-oxidized coating and adhesion to optical glass surface |
42th Annual Laser Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2010年9月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
6 |
2010 |
一般発表 |
On-site Sodium Production with Seawater Electrolysis by Offshore Wind Power Generation for Hydrogen Storage Metal |
再生可能エネルギー国際会議 (横浜) O-WdOc-7 |
国内 |
|
2010年7月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
7 |
2010 |
一般発表 |
Sodium Production by Molten Salt Electrolysis of Sodium Hydroxide for Hydrogen Storage and Hydrogen Fuel Cycle |
再生可能エネルギー国際会議 (横浜) O-Wd-12-7 |
国内 |
|
2010年7月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
8 |
2010 |
招待講演 |
Plasma Pretreatment Effect for Photochemical Modification and Patterned Functional Group Substitution onto Low Wettable Materials |
7th International Symposium on Contact Angle Wettability and Adhesion |
国際 |
MST |
2010年6月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
9 |
2009 |
招待講演 |
On Site Sodium Manufacturing for Energy Storage with Offshore Wind Power
and Seawater <Seawater electrolysis to produce alkali mwtal for hydrogen
generation&rt; |
2009 World Non-Grid-Connected Wind Power and Energy Conference |
国際 |
Jiangsu Academy of Macroeconomic Research, China 南京 |
2009年10月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
10 |
2009 |
一般発表 |
Sodium Production with Seawater electrolysis as Alternative Energy for Oil by Offshore Wind Power Generation (S42_3) |
WWEC2009 8th World Wind Energy and Exhibition |
国際 |
WWEC2009 (韓国Jeju) |
2009年6月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
11 |
2009 |
一般発表 |
Marine Resource Recovery and Offshor Integrated Plant by Wind and Seawater (S13_4) |
WWEC2009 8th World Wind Energy and Exhibition |
国際 |
WWEC2009 (韓国Jeju) |
2009年6月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
12 |
2009 |
招待講演 |
On-Site Sodium Production with Seawater Electrolysis as an Alternative Energy for Fossil fuels by Offshore Wind Power Generation |
3rd International Joint Conference on Altrnative Fuel Source and Energy Harvesting Thchniques |
国際 |
アンカレッジ |
2009年5月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
13 |
2009 |
招待講演 |
Wind power and seawater as alternative source of energy <On-Site Sodium
Productio with seawater Electolysis as an Alternative Energy for Oil by
Offshore Wind Power Genaration&rt; |
CETAS-2009 |
国際 |
Department of Environmental Science & Engineering Guru Jambheshwar University of Science & Techonology, Hisar-125001, India |
2009年2月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
14 |
2009 |
招待講演 |
Photo-oxidized Silicone Oil for High Power Laser Tolerance and High Temperature Resistance |
NASA 2009 Contamination, Coatings, and Materials Workshop |
国際 |
NASA Goddard Space Flight Center |
2009年 |
単独 |
M. Murahara
|
Masataka Murahara
|
0 |
15 |
2009 |
一般発表 |
Heat and high electric insulation resistance protective coating of solar cell and thermoelectric element for offshore solar power generation |
41th Annual Laser Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2009年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
4 |
16 |
2009 |
招待講演 |
Polymer Coating Surface Change into Ceramic Layer <Photo oxidized Silicone
Oil Layer for High Temperature and High Electric Insulation Resistance&rt; |
6th International Symposium on Polyimides and Other High Temperature Polymers |
国際 |
MST |
2009年 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
17 |
2009 |
一般発表 |
On-site sodium metal production with electrolysis by offshore wind or solar cell power generation for hydrogen generation |
2009 MRS Fall Meeting Symposium |
国際 |
Material Research Society |
2009年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
3 |
18 |
2008 |
招待講演 |
風力/潮流発電による海洋資源回収の開発 |
第3回新エネルギー世界展示会&国際フォーラム |
国内 |
日本風力エネルギー協会、再生可能エネルギー協議会 |
2008年8月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
19 |
2008 |
招待講演 |
Wind Power and Seawater, Save Corn from Ethanol Production <Marine resources recovery and offshore integrated plant for sodium fuel, fresh water, ethanol, vegetable, and fish production with wind energy and seawater&rt; |
Oxford Round Table, Summer |
国際 |
Forum on Public Policy |
2008年8月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
20 |
2008 |
一般発表 |
Formation of a photo-oxidized protective thin film with waterproof and high-power laser tolerance properties |
40th Annual Laser Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2008年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
3 |
21 |
2008 |
招待講演 |
On-Site Sodium Production with Seawater Electrolysis as an Alternative Energy for Oil by Offshore Wind Power Generation |
IEEE Energy 2030 |
国際 |
IEEE |
2008年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
22 |
2007 |
一般発表 |
Photochemical micro-pattern substitution of functional groups for protein absorbance control |
2007 MRS Fall Meeting Symposium |
国際 |
Material Research Society |
2007年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
23 |
2007 |
一般発表 |
太陽/風力発電による海洋資源回収と応用に関する洋上基地構想 |
平成19年度日本太陽エネルギー学会・日本風力エネルギー協会合同研究発表会 |
国内 |
日本太陽エネルギー学会・日本風力エネルギー協会 |
2007年10月 |
共同 |
村原正隆 |
村原正隆 |
1 |
24 |
2007 |
招待講演 |
UV光によるプラスチックの光化学的表面改質 |
第104回微小光学研究会 |
国内 |
応用物理学会/日本光学会/微小光学グループ |
2007年5月 |
単独 |
村原正隆 |
村原正隆 |
0 |
25 |
2007 |
一般発表 |
500℃以上の耐熱性を有する紫外線透過光学材料の高強度室温接着 |
レーザー学会学術講演会第27回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2007年 |
共同 |
村原正隆 |
村原正隆 |
0 |
26 |
2007 |
招待講演 |
Photo-oxidation Adhesion of a Calcium Fluoride Thin Plate onto Optical Elements with Silicone Oil for High Power Laser Tolerance in Water |
NASA 2007 Contamination, Coatings, and Materials Workshop |
国際 |
NASA Goddard Space Flight Center |
2007年 |
単独 |
M. Murahara
|
Masataka Murahara
|
0 |
27 |
2007 |
一般発表 |
Adhesion of a halogenated plate to optical elements providing antireflection and thermal resistance properties for high power laser |
39th Annual Laser Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2007年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
3 |
28 |
2006 |
一般発表 |
電界印加による光化学反応の促進(1) |
レーザー学会学術講演会第26回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2006年 |
共同 |
村原正隆 |
穴井洋行 |
1 |
29 |
2006 |
一般発表 |
シリコーンオイルの光酸化による石英ガラスの強接着と耐熱性 |
レーザー学会学術講演会第26回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2006年 |
共同 |
村原正隆 |
船津貴行 |
1 |
30 |
2006 |
一般発表 |
赤外分光を用いたフッ素樹脂への親水基置換過程の実時間測定(2) |
レーザー学会学術講演会第26回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2006年 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤友毅 |
0 |
31 |
2006 |
一般発表 |
非線形光学結晶の保護膜形成を目的としたエキシマ光によるSiO2膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第26回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2006年 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤信宏 |
2 |
32 |
2006 |
一般発表 |
Water-resistant hard coating on optical material by photo-oxidation of silicone oil |
Ophthalmic Technologies 16 |
国際 |
SPIE |
2006年 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
3 |
33 |
2005 |
一般発表 |
Anti-refractive and waterproof hard coating for high power laser optical elements |
AIP Conference, Karen Taiwan |
国際 |
|
2005年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
4 |
34 |
2005 |
一般発表 |
Electro wetting-induced photochemical surface modification onto fluorocarbon |
2005 MRS Fall Meetings |
国際 |
Material Research Society |
2005年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Hiroyuki Anai |
1 |
35 |
2005 |
一般発表 |
Anti-scatter coating on slab laser hard surface for evanescent wave with photo-oxidation of silicone oil |
2005 MRS Fall Meetings |
国際 |
Material Research Society |
2005年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Takayuki Funatsu |
2 |
36 |
2005 |
一般発表 |
Waterproof coating on nonlinear optical crystal surfaces by photo-oxidation of silicone oil |
2005 MRS Fall Meetings |
国際 |
Material Research Society |
2005年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Nobuhiro Sato |
1 |
37 |
2005 |
一般発表 |
Real Time Measurement of Photochemical Surface Reaction by Using a Total Reflection Prism |
2005 MRS Fall Meetings |
国際 |
Material Research Society |
2005年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuki Sato |
0 |
38 |
2005 |
一般発表 |
Selective protein adsorption on highly hydrophilic surface modified with combined V-UV photon and plasma irradiation |
2005 MRS Fall Meetings |
国際 |
Material Research Society |
2005年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuji Sato |
0 |
39 |
2005 |
一般発表 |
電界印加による光化学反応の促進 |
第66回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
|
共同 |
村原正隆 |
穴井洋行 |
1 |
40 |
2005 |
一般発表 |
非線形光学結晶の保護膜形成を目的としたエキシマ光によるSiO2膜の形成(4) |
第66回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
|
共同 |
村原正隆 |
佐藤信宏 |
1 |
41 |
2005 |
一般発表 |
赤外分光を用いたフッ素樹脂への親水基置換過程の実時間測定(3) |
第66回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
|
共同 |
村原正隆 |
佐藤友毅 |
0 |
42 |
2005 |
一般発表 |
光学用石英ガラスの光接着と耐熱性 |
第66回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
|
共同 |
村原正隆 |
船津貴行 |
0 |
43 |
2004 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光防止を目的とした透明SiO2膜の形成(6) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
手塚庸介 |
5 |
44 |
2004 |
一般発表 |
非線形光学結晶用の保護膜を目的としたレーザーによるSiO2膜の形成(3) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
小嶋勝
|
5 |
45 |
2004 |
一般発表 |
電圧印加による光化学反応の促進 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
穴井洋行
|
3 |
46 |
2004 |
一般発表 |
石英ガラスの光接着 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
船津貴行 |
3 |
47 |
2004 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の接着(4) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
小林正徳 |
3 |
48 |
2004 |
一般発表 |
紫外線を用いたプラスチックレンズ上への反射防止膜の形成 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
筏井昭光 |
4 |
49 |
2004 |
一般発表 |
赤外分光によるフッ素樹脂への親水基置換過程の実時間測定(2) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤友毅 |
2 |
50 |
2004 |
一般発表 |
ArFレーザーによるフッ素樹脂表面への銅核形成(4) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
望月樹也
|
4 |
51 |
2004 |
一般発表 |
細胞着床を目的としたPTFE表面への官能基置換(2) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
小林直樹、 |
4 |
52 |
2004 |
一般発表 |
眼内レンズ表面への官能基置換とタンパク質付着抑制(2) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
清水一成 |
4 |
53 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光を用いた後発白内障抑止用眼内レンズの開発 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤雄二
|
2 |
54 |
2004 |
一般発表 |
人工靭帯の初期固定力増強を目的としたPET表面への官能基置換とその効果(3) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
稲垣雅史
|
5 |
55 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光によるシリコーンゴム表面への官能基置換(2) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤信宏
|
3 |
56 |
2004 |
一般発表 |
エキシマランプを用いたポリプロピレン表面の親水性化 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2005年3月 |
共同 |
村原正隆 |
海老原崇 |
5 |
57 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光によるシリコーンゴム表面への官能基置換 |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤信宏
|
3 |
58 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光を用いた後発白内障抑止用眼内レンズの開発 |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤雄二
|
3 |
59 |
2004 |
一般発表 |
人工靭帯初期固定力増強を目的としたPET表面への親水基置換とその効果(2) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
稲垣雅史、 |
3 |
60 |
2004 |
一般発表 |
非線形光学結晶用の保護膜を目的としたレーザーによるSiO2膜の形成(2) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
小嶋勝
|
2 |
61 |
2004 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光の減少を目的としたSiO2膜の形成(V) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
手塚庸介 |
4 |
62 |
2004 |
一般発表 |
眼内レンズ表面への官能基置換とたんぱく質付着抑制(2) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
清水一成 |
4 |
63 |
2004 |
一般発表 |
電界印加による光化学反応の促進(T) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
穴井洋行
|
3 |
64 |
2004 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の光接着(2) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
小林正徳 |
3 |
65 |
2004 |
一般発表 |
石英ガラスの光接着 |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
船津貴行 |
3 |
66 |
2004 |
一般発表 |
赤外分光を用いたフッ素樹脂への親水基置換過程の実時間測定 |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤友毅
|
2 |
67 |
2004 |
一般発表 |
細胞着床を目的としたPTFE表面への官能基置換(2) |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
小林直樹 |
4 |
68 |
2004 |
一般発表 |
エキシマランプを用いたポリプロピレン表面の親水性化 |
レーザー学会学術講演会第25回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
太田和樹 |
5 |
69 |
2004 |
一般発表 |
紫外線を用いたプラスチック上への反射防止膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第26回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2005年1月 |
共同 |
村原正隆 |
筏井昭光 |
5 |
70 |
2004 |
一般発表 |
ArFレーザーによるシリコーンゴム表面への銅核形成 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
望月樹也
|
2 |
71 |
2004 |
一般発表 |
赤外分光によるフッ素樹脂への親水基置換過程の実時間測定 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤友毅
|
2 |
72 |
2004 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の接着(3) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
舩津貴行、 |
2 |
73 |
2004 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光防止を目的とした透明SiO2膜の形成(5) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
手塚庸介 |
4 |
74 |
2004 |
一般発表 |
エキシマランプを用いたポリイミド表面の耐水性化(4) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
小林直樹 |
5 |
75 |
2004 |
一般発表 |
紫外線を用いたプラスチックレンズ上への反射防止膜形成 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
筏井昭光 |
5 |
76 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光を用いたポリプロピレン表面への官能基置換, 第65回応用物理学会学術講演会 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
太田和樹 |
4 |
77 |
2004 |
一般発表 |
Xe2エキシマランプを用いたPMMA表面への官能基置換(5) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
清水一成 |
4 |
78 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光を用いたPTFE表面への官能基置換と蛋白質付着性, |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤雄二
|
2 |
79 |
2004 |
一般発表 |
非線形光学結晶用の保護膜を目的としたレーザーによるSiO2膜の形成(2) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
小嶋勝
|
2 |
80 |
2004 |
一般発表 |
ポーラスPTFE細孔内部の親水性化と透過圧力制御膜の開発 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
穴井洋行、 |
3 |
81 |
2004 |
一般発表 |
エキシマランプによるPMMA眼内レンズ表面へのアミノ基置換, |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
海老原崇 |
5 |
82 |
2004 |
一般発表 |
真空紫外光によるシリコーンゴム表面への官能基置換 |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
佐藤信宏
|
3 |
83 |
2004 |
一般発表 |
人工靭帯の初期固定力増強を目的としたPET表面への官能基置換とその効果(2) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
稲垣雅史、 |
3 |
84 |
2004 |
一般発表 |
ArFレーザー1パルス照射によるフッ素樹脂表面への銅核形成(3) |
第65回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年9月 |
共同 |
村原正隆 |
望月樹也
|
2 |
85 |
2004 |
一般発表 |
Photochemical Adhesion of Fused Silica Glass for UV transmittance |
36th Boulder Damege Symposium |
国際 |
SPIE |
2004年9月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
3 |
86 |
2004 |
一般発表 |
Laser Induced Fluorocarbon Coating onto Fused Silica Optics |
36th Boulder Damege Symposium |
国際 |
SPIE |
2004年9月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Funatsu |
3 |
87 |
2004 |
一般発表 |
Photochemical surface modification method for fibrin free intraocular lens |
OPHTHALMIC TECHNOLOGIES, XV, |
国際 |
SPIE |
2005年1月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuji Sato |
3 |
88 |
2004 |
一般発表 |
Photochemical Adhesion of Fused Silica Glass Lens by Silicone Oil |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Takayuki Funatsu |
3 |
89 |
2004 |
一般発表 |
Real Time Measurement of Functional Groups Substitution on Fluorocarbon Surface by ATR-FTIR |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuki Sato |
2 |
90 |
2004 |
一般発表 |
Comparison of -OH and -NH2 Functional Group Substitution on PTFE Surface with V-UV Photon Irradiation for Protein Adsorption |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Naoki Kobayashi |
3 |
91 |
2004 |
一般発表 |
Photochemical Deposition of Transparent Low Refractive Index SiO2 Topcoat for Laser Head at Room Temperature |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yousuke Teduka |
2 |
92 |
2004 |
一般発表 |
Copper Pattern Formation on Fluorocarbon Film by Single Shot of ArF Laser |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Tatsuya Mochizuki |
2 |
93 |
2004 |
一般発表 |
Photochemical moisture proof coating on nonlinear optical crystal by ArF excimer laser |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masaru Kojima |
2 |
94 |
2004 |
一般発表 |
UV-Photon Induced Photo-chemical Surface Modification of Silicone Rubber for Biocompatible Intraocular Lens |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Nobuhiro Sato |
3 |
95 |
2004 |
一般発表 |
Fibrin Free Intraocular Lens with V-UV Photon Induced Photochemical Surface Modification for Making Micro Domain Structure with hydrophilic and Hydrophobic |
2004 MRS Fall Meetings |
国際 |
MRS |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuji Sato |
2 |
96 |
2004 |
一般発表 |
Comparison of hydrophilic and oleophilic groups substitution on PTFE surface with V-UV photon irradiation for protein adsorption |
3rd international symposium on interface in polymer composites and laminates focusing on the nanoscale |
国際 |
MST |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Yuji Sato |
2 |
97 |
2004 |
一般発表 |
Development of water permeable & bio-compatible membrane and Albumin Adsorption Effect |
3rd international symposium on interface in polymer composites and laminates focusing on the nanoscale |
国際 |
MST |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Hiroyuki Anai |
3 |
98 |
2004 |
一般発表 |
Development of PET Ligament with High Adhesive Strength with Biological Tissues by Using ArF Excimer Laser |
3rd international symposium on interface in polymer composites and laminates focusing on the nanoscale |
国際 |
MST |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masashi Inagaki |
3 |
99 |
2004 |
招待講演 |
Photochemical Adhesion of Fused Silica Glasses with Silicon Oil |
3rd international symposium on interface in polymer composites and laminates focusing on the nanoscale |
国際 |
MST |
2004年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
100 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる光化学的表面改質と機能性発現 |
レーザー加工技術とその周辺 |
国内 |
レーザー協会 |
2003年5月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
101 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザーによるABS樹脂表面への銅メッキ |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
安喰徹
|
1 |
102 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザーによるナイロン66表面への銅メッキ |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
奥田 遼一
|
1 |
103 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザーによるフッ素樹脂表面への銅核形成 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月樹也
|
1 |
104 |
2003 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポリアセタール表面への銅メッキ |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
小嶋勝
|
1 |
105 |
2003 |
一般発表 |
エキシマランプによるポリイミド表面の耐水性化 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤信宏
|
2 |
106 |
2003 |
一般発表 |
エキシマランプによるポリプロピレンの官能基置換とたんぱく質付着性 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
穴井洋行
|
1 |
107 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの光化学的エッチング(3) |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木大
|
1 |
108 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる多孔質フッ素樹脂内部への官能基置換 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
1 |
109 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたPET表面の親水性化による繊維芽細胞吸着促進 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
稲垣雅史
|
2 |
110 |
2003 |
一般発表 |
エバネッセント波漏れ光防止を目的とした透明SiO2膜の形成(3) |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
船津貴行
|
4 |
111 |
2003 |
一般発表 |
医用材料を目的としたフッ素樹脂の親水性化とタンパク質付着性 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤友毅
|
2 |
112 |
2003 |
一般発表 |
後発白内障抑止用眼内レンズ開発の為の表面改質(3) |
003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
1 |
113 |
2003 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の接着 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
2 |
114 |
2003 |
一般発表 |
透明SiO2膜の分子積層 |
2003年秋季 第64回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
手塚 庸介
|
1 |
115 |
2003 |
一般発表 |
ArF laser-induced photo chemical super mirror-finishing of Si wafer |
35th Boulder Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2003年9月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
116 |
2003 |
一般発表 |
Cu Nuclei Substitution on Fluorocarbon Surface with Single Shot of ArF Laser Irradiation |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T.Mochizuki
|
0 |
117 |
2003 |
一般発表 |
Development of Fibrin-free Instraocular Lens for Blocking After-cataract with Photochemical Surface Modification |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
K.Tanizawa
|
1 |
118 |
2003 |
一般発表 |
Excimer Lamp-Induced Photochemical Bonding of Fused Silica Glass and Fluorocarbon Film by Using Organic Silicon Oil for Photochemical Polishing of SiC |
International Symposium on Adhesion Aspects of Thin Films |
国際 |
MST |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
D.Sasaki
|
1 |
119 |
2003 |
一般発表 |
Long-Sustaining Hydrophilic Modification of PET Surface for Artificial Ligament |
International Symposium on Adhesion Aspects of Thin Films |
国際 |
MST |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
M.Inagaki
|
1 |
120 |
2003 |
一般発表 |
Photochemical Bonding of Fluorocarbon and Fused Silica Glass for Ultraviolet Ray Transmitting |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
K.Asano
|
0 |
121 |
2003 |
一般発表 |
Photochemical Lamination of Transparent SiO2 Thin Film on PMMA Surface at Room Temperature |
International Symposium on Adhesion Aspects of Thin Films |
国際 |
MST |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Tezuka
|
0 |
122 |
2003 |
一般発表 |
Single shot of ArF laser-induced photochemical nucleation of copper on all-aromatic-polyimide and fluorocarbon surface |
3rd International Symposium on Polyimides and Other High Temperature Polymers |
国際 |
MST |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
123 |
2003 |
一般発表 |
Selective Protein Adsorption on PTFE Surface with ArF laser Induced Photochemical Modification |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
0 |
124 |
2003 |
一般発表 |
SiO2 Film Lamination on Nonlinear Optical Crystal with Photochemical Oxidization of Silicone Oil |
International Symposium on Adhesion Aspects of Thin Films |
国際 |
MST |
2003年12月 |
共同 |
M. Murahara |
M.Kojima
|
1 |
125 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザーによる1パルス照射によるフッ素樹脂表面への銅核形成 (2) |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月樹也
|
0 |
126 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザー光化学反応によるナイロン66表面への銅メッキ |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
奥田遼一
|
1 |
127 |
2003 |
一般発表 |
Development of fibrin-free intraocular lens with photochemical surface modification |
Ophthalmic Technologies XIV |
国際 |
SPIE |
2004年1月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
1 |
128 |
2003 |
一般発表 |
PET表面への親水基置換と励起波長依存性 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
岩田章秀
|
2 |
129 |
2003 |
一般発表 |
Xe2エキシマランプを用いたポリプロピレン表面への官能基置換と蛋白質付着性 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
穴井洋行
|
1 |
130 |
2003 |
一般発表 |
エキシマランプによるプラスチックレンズ用反射防止膜の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
手塚庸介
|
1 |
131 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたSiCミラーの光化学的研磨 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木大
|
1 |
132 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたSiウェハのパターン状光酸化エッチング |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
船津貴行
|
1 |
133 |
2003 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光防止を目的とした透明SiO2膜の形成 (V) |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
間宮潤悟
|
4 |
134 |
2003 |
一般発表 |
プリント基板形成を目的としたエポキシ樹脂表面への銅核形成とメッキ |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐久間亮介
|
1 |
135 |
2003 |
一般発表 |
ポーラスPTFE細孔内部への官能基置換と蛋白質付着性 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
1 |
136 |
2003 |
一般発表 |
ポリイミド表面の耐水性化(2) |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
安喰徹
|
3 |
137 |
2003 |
一般発表 |
眼内レンズ表面への官能基置換と蛋白質付着抑制 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤信宏
|
2 |
138 |
2003 |
一般発表 |
後発白内障抑止を目的とした眼内レンズの表面改質 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
1 |
139 |
2003 |
一般発表 |
細胞着床を目的としたフッ素樹脂の親水性化 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤友毅
|
2 |
140 |
2003 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の接着 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
1 |
141 |
2003 |
一般発表 |
人工靭帯の初期固定力増強を目的としたPET表面への親水基置換とその効果 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
稲垣雅史
|
2 |
142 |
2003 |
一般発表 |
非線形光学結晶用の保護膜を目的としたレーザーによるSiO2膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小嶋勝
|
1 |
143 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザー1パルス照射によるフッ素樹脂表面への銅核形成(3) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月 樹也
|
0 |
144 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザーを用いたポリカーボネイト表面への銅核形成と無電解銅メッキ |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐久間 亮介
|
1 |
145 |
2003 |
一般発表 |
ArFレーザー光化学反応によるナイロン表面への無電解銅めっき(2) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
奥田 遼一
|
1 |
146 |
2003 |
一般発表 |
Xe2エキシマランプによるポリプロピレンの官能基置換と蛋白質付着性(2) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
穴井 洋行
|
1 |
147 |
2003 |
一般発表 |
エキシマランプによるPET表面への親水基置換 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
岩田 章秀
|
2 |
148 |
2003 |
一般発表 |
エキシマランプを用いたプラスチックレンズ用反射防止膜の室温形成 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
手塚 庸介
|
0 |
149 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポーラスPTFE細孔内部への官能基置換と蛋白質付着性 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 信宏
|
1 |
150 |
2003 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポリイミド表面の耐水性化(2) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
安喰 徹
|
2 |
151 |
2003 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光防止を目的とした透明SiO2膜の室温形成(4) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
間宮 潤悟
|
4 |
152 |
2003 |
一般発表 |
後発白内障抑止用眼内レンズ開発の為の表面改質(4) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 友毅
|
2 |
153 |
2003 |
一般発表 |
細胞着床を目的としたPTFEの親水性化 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
星 大輔
|
2 |
154 |
2003 |
一般発表 |
紫外透過を目的とした石英ガラスとフッ素樹脂の接着(2) |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
舩津 貴行
|
2 |
155 |
2003 |
一般発表 |
真空紫外光による後発白内障抑止用眼内レンズの開発 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 雄二
|
2 |
156 |
2003 |
一般発表 |
人工靭帯の初期固定力増強を目的としたPET表面への官能基置換とその効果 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
稲垣 雅史
|
1 |
157 |
2003 |
一般発表 |
非線形光学結晶用の保護膜を目的としたレーザーによるSiO2膜の形成 |
2004年春季 第51回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2004年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小嶋 勝
|
1 |
158 |
2003 |
シンポジウム発表 |
エバネッセント波全反射防止を目的とした低屈折率透明SiO2膜の室温形成 |
レーザー研シンポジューム2003 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
2003年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
159 |
2003 |
司会・座長・コメンテーター |
レーザー物理・化学4「レーザーカオス・量子光学」 |
レーザー学会学術講演会第24回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2004年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
160 |
2002 |
一般発表 |
Tissue interaction of different materials for a new glaucoma implant in rabbits |
The Association For Research in Vision and Ophtalmology |
国際 |
ARVO 2002 |
2002年5月 |
共同 |
M. Murahara |
V.Fernandez
|
8 |
161 |
2002 |
一般発表 |
Growth of low refractive index transparent SiO2 film on glass substrate at room temperature |
International Community for Composites Engineering and College of Engineering, University of New Orleans |
国際 |
International Conference on Composites Engineering |
2002年7月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
0 |
162 |
2002 |
一般発表 |
Photo-chemical Laminating of Low Refractive Index Transparent Antireflective SiO2 Film |
34th Boulder Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
3 |
163 |
2002 |
一般発表 |
PET表面へのArFエキシマレーザー1shot照射時の銅核形成 |
第63回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
4 |
164 |
2002 |
一般発表 |
エキシマランプを用いた低屈折率SiO2反射防止膜の形成 |
第63回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
1 |
165 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーでPET上に置換したアミノ基と親水基のタンパク質親和性 |
第63回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
1 |
166 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの光化学的エッチング |
第63回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木大
|
0 |
167 |
2002 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発(4) |
第63回秋季応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
3 |
168 |
2002 |
一般発表 |
後発白内障抑止用眼内レンズ開発の為の表面改質 |
第63回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
0 |
169 |
2002 |
一般発表 |
合成石英ガラスのPCP加工 |
第63回秋季応用物理関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2002年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
2 |
170 |
2002 |
一般発表 |
ArF laser induced photochemical nucleation of copper on PET surface |
2nd International Symposium on Interfaces in Polymer Composites and Adhesives |
国際 |
MST |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
0 |
171 |
2002 |
一般発表 |
Comparison with amino group and hydrophilic group for protein affinity by excimer laser induced functional groups substitution onto PET film |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
2 |
172 |
2002 |
一般発表 |
Fibrin Free and Aqueous Humor Penetration Modified Membrane with ArF Excimer Laser for Glaucoma Implant |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
1 |
173 |
2002 |
一般発表 |
Laser-Induced Photochemical Surface Modification of Intraocular Lens for Blocking After-Cataract |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
1 |
174 |
2002 |
一般発表 |
Laser-induced Photochemical Nucleation of Copper on PET surface |
2nd International Symposium on Interfaces in Polymer Composites and Adhesives |
国際 |
MST |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
0 |
175 |
2002 |
一般発表 |
Photochemical lamination of low refractive index transparent SiO2 film at room temperature for antireflection coating |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Ogawa
|
0 |
176 |
2002 |
一般発表 |
Photochemical pattern etching of silicon-carbide by using excimer laser and hydrogen peroxide solution |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
M. Murahara |
D,Sasaki
|
0 |
177 |
2002 |
一般発表 |
Polishing of Fused Silica Glass Using HF Produced with Photo-dissociation of Fluorocarbon Surface and Water |
2nd International Symposium on Interfaces in Polymer Composites and Adhesives |
国際 |
MST |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
0 |
178 |
2002 |
一般発表 |
Single shot of ArF laser induced photochemical nucleation of copper on polyethylene-terephthalate surface |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
2002年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
0 |
179 |
2002 |
一般発表 |
ArFレーザーによるPET表面への銅核形成 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月樹也
|
2 |
180 |
2002 |
一般発表 |
ArFレーザーによるフッ素樹脂表面への銅核形成 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
2 |
181 |
2002 |
一般発表 |
Laser Induced Photochemical Surface Modification of PMMA for Fibrin Free Intraocular Lens |
Opthalmic Technology ]V Symposium |
国際 |
SPIE |
2003年1月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
2 |
182 |
2002 |
一般発表 |
エキシマランプを用いた低屈折率SiO2厚膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第23年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
2 |
183 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPET人工靭帯へのアミノ基と親水基の置換効果 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
稲垣雅史
|
1 |
184 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの強制酸化とエッチング(3) |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木大
|
0 |
185 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる断裂した腱の初期固定力強化 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
0 |
186 |
2002 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光の減少を目的としたSiO2膜の形成(U) |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小嶋勝
|
4 |
187 |
2002 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発 (3) |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
M.Murahara
|
Y.Sato
|
2 |
188 |
2002 |
一般発表 |
後発白内障を起させない為の眼内レンズの表面改質 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
1 |
189 |
2002 |
一般発表 |
合成石英ガラスのPCP加工 |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
3 |
190 |
2002 |
一般発表 |
反射防止を目的としたガラス基板上へのSiO2膜の形成(U) |
レーザー学会学術講演会第23回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2003年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
手塚庸介
|
1 |
191 |
2002 |
一般発表 |
ArFレーザーによるエポキシ樹脂表面への銅核形成 |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月樹也
|
2 |
192 |
2002 |
一般発表 |
ArFレーザーによるフッ素樹脂表面への銅核形成とパルス数依存性 |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
2 |
193 |
2002 |
一般発表 |
エキシマランプと基板冷却効果を利用した低屈折率SiO2厚膜の形成 |
第50回応用物理学関係連合会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
2 |
194 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーでPET上に置換したアミノ基と親水基のタンパク質親和性(2) |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
1 |
195 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPET人工靭帯へのアミノ基と親水基の置換効果 |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
稲垣雅史
|
1 |
196 |
2002 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの光化学的エッチング(2) |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木大
|
1 |
197 |
2002 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光の減少を目的としたSiO2膜の形成(U) |
第50回応用物理学会関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小嶋勝
|
4 |
198 |
2002 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発(4) |
第50回春季応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
2 |
199 |
2002 |
一般発表 |
後発白内障抑止用眼内レンズ開発の為の表面改質(2) |
第50回応用物理学関係学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤克也
|
1 |
200 |
2002 |
一般発表 |
合成石英ガラスのPCP加工(2) |
第50回春季応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野健司
|
3 |
201 |
2002 |
一般発表 |
反射防止を目的としたガラス基板上へのSiO2膜の形成(U) |
第50回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2003年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
手塚庸介
|
1 |
202 |
2002 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーによるプラスチックの表面機能化と石英ガラスのPCP加工 |
光部品生産技術部会 |
国内 |
JOEM |
2002年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
203 |
2002 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーによるプラシチックの表面改質 |
第9回レーザー夏の学校 |
国内 |
レーザー学生会 |
2002年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
204 |
2002 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーによる光化学反応の現状と展望 |
第4回精密工学会「新しいレーザープロセッシング技術に関する調査・研究分科会」 |
国内 |
精密機械工学会 |
2002年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
205 |
2002 |
特別講演・招待講演 |
Amino Group Substitution on PET Film and Collagen Cell Adhesion For Artificial Ligament |
2nd International Symposium on Interfaces in Polymer Composites and Adhesives |
国際 |
MST |
2002年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
206 |
2002 |
シンポジウム発表 |
エバネッセント波全反射損失防止を目的とした低屈折率SiO2膜の室温形成 |
レーザー研シンポジウム |
国内 |
レーザー核融合研究センター |
2002年7月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
4 |
207 |
2002 |
司会・座長・コメンテーター |
レーザープロセッシング4 |
レーザー学会学術講演会大23回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
2003年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
208 |
2001 |
一般発表 |
エバネッセント波金反射損失防止のための低屈折率SiO2膜の室温形成 |
レーザー研シンポジウム2001 |
国内 |
レーザー研 |
2001年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
209 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー1パルス照射でポリイミド表面に銅核原子を置換 |
第62回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2001年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永 裕人
|
2 |
210 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるPETフィルム上へのアミノ基置換とコラーゲンの吸着促進 |
第62回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2001年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室 仁
|
1 |
211 |
2001 |
一般発表 |
エキシマランプを利用したガラス基板上への低屈折率SiO2膜の室温形成(T) |
第62回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2001年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川 泰洋
|
3 |
212 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポーラスPTFE細孔内部の親油性化と液体分離膜の開発 |
第62回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2001年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
原田 夏樹
|
2 |
213 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる細孔内部の親水性化と透過圧力制御膜の開発 |
第62回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2001年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 雄二
|
2 |
214 |
2001 |
一般発表 |
Excimer Laser-Induced Photochemical Polishing of SiC Mirror |
33rd Annual Boulder Damage Symposium |
国際 |
SPIE |
2001年10月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
215 |
2001 |
一般発表 |
Area-selective nucleation of copper on photo oxidized polyimide surface with single shot irradiation of ArF laser |
MRS Fall Meeting., M.3.7 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Tokunaga
|
0 |
216 |
2001 |
一般発表 |
Development of no-rejection aqueous humor pressure control membrane in the eyeball for glaucoma implant devices |
MRS Fall Meeting, HH3.26 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
1 |
217 |
2001 |
一般発表 |
Excimer laser induced hydrophilic treatment of PET ligament to inhibit fibroblast and collagen |
MRS Fall Meeting, HH.3.27 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Omuro
|
0 |
218 |
2001 |
一般発表 |
Hydrophilic treatment of aqueous humor pressure control membrane by ArF laser |
MRS Fall Meeting, FF.5.3 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
1 |
219 |
2001 |
一般発表 |
Photochemical copper nucleation on polyimide film for surface preparation of electroless plating |
MRS Fall Meeting, DD. 9.6 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Tokunaga
|
0 |
220 |
2001 |
一般発表 |
Photochemical nucleation of copper on polyimide surface with 10ns laser irradiation |
MRS Fall Meeting, S.5.8 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Tokunaga
|
1 |
221 |
2001 |
一般発表 |
UV laser induced amino group substitution on PET ligament to promote inhibition of collagen |
MRS Fall Meeting, FF.5.1 |
国際 |
Materials Research Society |
2001年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Omuro
|
5 |
222 |
2001 |
一般発表 |
Excimer laser induced Amino substitution on PET film for implantation of collagen |
Laser 2001 |
国際 |
Laser 2001 |
2001年12月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Omuro
|
0 |
223 |
2001 |
一般発表 |
Excimer laser induced hydrophilic treatment of the inner pore porous PTFE |
Laser 2001 |
国際 |
Laser 2001 |
2001年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Sato
|
0 |
224 |
2001 |
一般発表 |
Photochemical nucleation of copper on polyimide surface with 10ns laser irradiation |
Laser 2001 |
国際 |
Laser 2001 |
2001年12月 |
共同 |
M. Murahara |
H.Tokunaga
|
0 |
225 |
2001 |
一般発表 |
Spontaneous Lamination of Transparent Low Refractive Thick SiO2 Film at Room Temperature by Using KrF Laser and Xe Excimer Lamp |
Laser 2001 |
国際 |
Laser 2001 |
2001年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y.Ogawa
|
0 |
226 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーの1shot照射で光酸化ポリイミド表面への銅密度依存性 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永 裕人
|
0 |
227 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いた石英ガラスの研磨 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野 健司
|
2 |
228 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPETフィルム上へのアミノ基置換効果 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室 仁
|
1 |
229 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPET人工靭帯表面へのアミノ基置換とコラーゲンの吸着促進 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室 仁
|
3 |
230 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの強制酸化とエッチング(2) |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木 大
|
1 |
231 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポリイミド表面の耐水性化 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤 克也
|
2 |
232 |
2001 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光の減少を目的としたSiO2膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川 泰洋
|
3 |
233 |
2001 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発(2) |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 雄二
|
1 |
234 |
2001 |
一般発表 |
ポーラスPTFE細孔内部の親水性化と透過圧力制御膜の開発 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 雄二
|
2 |
235 |
2001 |
一般発表 |
反射防止を目的としたガラス基板上へのSiO2膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第22回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
2002年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川 泰洋
|
1 |
236 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるPETフィルム上へのアミノ基置換とコラーゲンの吸着促進(2) |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室 仁
|
0 |
237 |
2001 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いた石英ガラスの研磨 |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅野 健司
|
2 |
238 |
2001 |
一般発表 |
SiCの光化学的エッチング(SiCの強制酸化と生成酸化物のエッチング) |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐々木 大
|
1 |
239 |
2001 |
一般発表 |
光酸化ポリイミド表面へのエキシマレーザー1shot照射の銅核密度依存性 |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永 裕人
|
0 |
240 |
2001 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポリイミド表面の耐水性化 |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
谷澤 克也
|
2 |
241 |
2001 |
一般発表 |
エバネッセント波の漏れ光の減少を目的としたガラス基板上へのSiO2膜の形成 |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川 泰洋
|
1 |
242 |
2001 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療のための移植素子の開発(3) |
第49回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2002年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 雄二
|
3 |
243 |
2001 |
司会・座長・コメンテーター |
材料光学 |
第49回応用物理関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
2002年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
244 |
2000 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたポリイミドフィルム上への銅薄膜直接形成の銅密度依存性 |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
3 |
245 |
2000 |
一般発表 |
Self-laminate growing of transparent SiO2 thin film at room temperature by excimer lamp |
Institute for Molecular Science Symposium on Vacuum Ultraviolet Radiation Light Sources and Their Material Applications |
国内 |
Institute for Molecular Science (Okazaki) |
2000年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原正隆 |
0 |
246 |
2000 |
一般発表 |
Siウェハのレジストレス光エッチング |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
1 |
247 |
2000 |
一般発表 |
ガラス基板上への低屈折率SiO2膜の室温形成 (V) |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
4 |
248 |
2000 |
一般発表 |
医用材料を目的としたPETフィルムの親水性化 |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
3 |
249 |
2000 |
一般発表 |
紫外光を用いたSi基板上へのパターン状Znの核形成 |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
0 |
250 |
2000 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発 |
第61回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2000年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
5 |
251 |
2000 |
一般発表 |
Photo-chemical polishing of fused silica micro optics by using ArF excimer laser |
Annual Symposium on Optical Materials for High Power Lasers |
国際 |
Laser-Induced Damege Conference, Inc. |
2000年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
|
0 |
252 |
2000 |
一般発表 |
Resistless ecthing of SiC with photo-oxidation reaction by using eximer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Material Research Society |
2000年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
1 |
253 |
2000 |
一般発表 |
Hydrophilic treatment of inner porous PTFE for intractable glaucoma implant device |
Laser 2001 High-power Lasers Applications |
国際 |
SPIE The International Society for Optical Engneering |
2001年1月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
4 |
254 |
2000 |
一般発表 |
Novel glaucoma implant |
Bios 2001 (International Biomedical Optics Symposium) |
国際 |
SPIE The International Society for Optical Engineering |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
J.M.Parel
|
9 |
255 |
2000 |
一般発表 |
Resistless etching of SiC with photo-oxidation reaction by using eximer laser |
Laser 2001 High-power Lasers Applications |
国際 |
SPIE The International Society for Optical Engneering |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
0 |
256 |
2000 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの強制酸化とエッチング |
レーザー学会学術講演会第21回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
0 |
257 |
2000 |
一般発表 |
ガラス基板上へのSiO2膜形成 |
レーザー学会学術講演会第21回大会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
5 |
258 |
2000 |
一般発表 |
コラーゲン接着を目的としたPETフィルムの親水性化 |
レーザー学会学術講演会第21回大会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
4 |
259 |
2000 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム上への銅薄膜形成の銅密度依存性 |
レーザー学会学術講演会第21回大会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
3 |
260 |
2000 |
一般発表 |
緑内障治療の為の移植素子開発 |
レーザー学会学術講演会第21回大会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
2001年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
5 |
261 |
2000 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポリイミドフィルム上への銅薄膜形成と銅密度依存性 |
第48回応用物理学関係連合講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2001年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
徳永裕人
|
3 |
262 |
2000 |
一般発表 |
エキシマランプを用いたガラス基板上へのSiO2膜形成 |
第48回応用物理学関係連合講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2001年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小川泰洋
|
5 |
263 |
2000 |
一般発表 |
コラーゲン接着を目的としたArFエキシマレーザーによるPETフィルムの親水性化 |
第48回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2001年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大室仁
|
4 |
264 |
2000 |
一般発表 |
フッ酸を用いたSiCの光エッチング |
第48回応用物理学会関係連合講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2001年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
1 |
265 |
2000 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発 |
第48回応用物理学関係連合講演会 講演予稿集 |
国内 |
社団法人応用物理学会 |
2001年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤雄二
|
4 |
266 |
1999 |
一般発表 |
Growth of Transparent SiO2/SiO Thin Film at Room Temperature by Excimer Lamp |
E-MRS 1999 Spring Meeting |
国際 |
European Materials Societies |
1999年6月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
267 |
1999 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたポリイミドフィルム上への銅回路パターンの直接形成(V) |
第60回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1999年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
0 |
268 |
1999 |
一般発表 |
Zn核形成とエキシマランプを用いたZnS及びにZnO膜の形成 |
第60回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1999年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田匡広
|
0 |
269 |
1999 |
一般発表 |
紫外光を用いたポリイミドフイルム表面へのフッ素化(3) |
第60回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1999年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀忠広
|
1 |
270 |
1999 |
一般発表 |
室温下で形成した低誘電率SiO2膜(4) |
第60回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1999年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
0 |
271 |
1999 |
一般発表 |
Growth of Metal Nucleus on Polyimide Surface with Photochemical Reaction |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1999年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masaki Tomita
|
0 |
272 |
1999 |
一般発表 |
Patterned ZnS Thin-film Growth Using KrCl Lamp on The Zn Nuclei |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1999年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Masahiro Toda
|
0 |
273 |
1999 |
一般発表 |
ZnO膜の形成 《ArFエキシマレーザーによるZnの核形成と、KrClエキシマランプによる光酸化反応》 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 誠
|
3 |
274 |
1999 |
一般発表 |
ZnS膜の形成 《ArFレーザーによる核形成とXeClエキシマランプによるZnS膜成長》 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田 匡広
|
1 |
275 |
1999 |
一般発表 |
ポーラスPTFEの親水性化 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 祐介
|
2 |
276 |
1999 |
一般発表 |
ポーラスPTFEを用いた緑内障治療の為の移植素子開発 |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
5 |
277 |
1999 |
一般発表 |
ポリイミドフィルムの撥水性化 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
1 |
278 |
1999 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム上へのCu及びNi薄膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
1 |
279 |
1999 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム上へのSiC薄膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
若山 洋介
|
0 |
280 |
1999 |
一般発表 |
単結晶3C-SiCのレジストレスパターンエッチング |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
久保 洋平
|
2 |
281 |
1999 |
一般発表 |
透明SiO2膜の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
2 |
282 |
1999 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた緑内障房水流出障害治療の為の移植デバイスの開発 |
レーザー学会学術講演会第20回年次大会 |
国内 |
(社)レーザー学会 |
2000年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
1 |
283 |
1999 |
一般発表 |
Zn核形成とエキシマランプによるZnS膜の形成-2 |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田 匡広
|
3 |
284 |
1999 |
一般発表 |
ポリイミドフィルムの撥水性化(W) |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
3 |
285 |
1999 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム上へのNi薄膜の形成 |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
3 |
286 |
1999 |
一般発表 |
室温化で形成した低誘電率SiO2膜(X) |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
2 |
287 |
1999 |
一般発表 |
送電用クランプの表面温度分布測定とクランプ内部の観察 |
平成12年電気学会全国大会 |
国内 |
(社)電気学会 |
2000年3月 |
共同 |
岡部 昭三
|
岡部 昭三
|
4 |
288 |
1999 |
一般発表 |
単結晶3C-SiCのレジストレスエッチング |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小平 佳洋
|
4 |
289 |
1999 |
特別講演・招待講演 |
ArF Laser Induced Photochemical Surface Modification of Polyimide Film |
2nd International Symposium on Polymer Surface Modification: Relevance to Adhesion |
国際 |
MST |
1999年5月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
290 |
1999 |
特別講演・招待講演 |
プラスチックの表面改質 |
題35回夏期セミナー:紫外域の光源と産業への応用―いま、紫外域で何がおっこっているか起こっているか― |
国際 |
(社)日本分光学会 |
1999年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
291 |
1999 |
特別講演・招待講演 |
ArF Laser and Xe2* Excimer Lamp Induced Photochemical Fluorination of Polyimide Film |
International Symposium on Polyimides and Other High Temperature Polymers |
国際 |
MST |
1999年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
292 |
1999 |
特別講演・招待講演 |
Hydrophilic Treatment of Inner Porous PTFE Implant Devices for Intractable Glaucoma |
International Symposium on Polyimides and Other High Temperature Polymers |
国際 |
MST |
1999年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
6 |
293 |
1999 |
特別講演・招待講演 |
学生に自分で考える習慣を付けさせるために -私のテキストは理科年表だけです- |
第47回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
2000年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
294 |
1998 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーとXe2*エキシマランプによるポリイミドフィルムへのフッ素化 |
第59回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
295 |
1998 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー照射によるポリイミド表面上への回路パターン状銅薄膜成長 |
第59回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
3 |
296 |
1998 |
一般発表 |
ArFレーザーによるポーラスPTFE内部の親水性化 〜水蒸気の光分解とOH置換〜 |
第59回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
2 |
297 |
1998 |
一般発表 |
エキシマランプを用いた室温下で形成したSiO2膜の屈折率とアニール温度依存性 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
1 |
298 |
1998 |
一般発表 |
エキシマレーザを用いたパターン状ZnS膜の形成 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
木村 直人
|
3 |
299 |
1998 |
一般発表 |
フレキシブルプリント基板形成を目的としたポリイミド表面への光化学的銅薄膜形成 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
3 |
300 |
1998 |
一般発表 |
液体分離膜を目的としたポーラスPTFE内部の親水性化 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
早坂 健
|
3 |
301 |
1998 |
一般発表 |
回析格子形成を目的としたSiCのレジストレスエッチング |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
2 |
302 |
1998 |
一般発表 |
光化学法を用いたポリカーボネートのフッ素化 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
高草木 宏昌
|
2 |
303 |
1998 |
一般発表 |
室温下で形成したSiO2膜に存在するフッ素原子とその物理的挙動について |
第59回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
1 |
304 |
1998 |
一般発表 |
水蒸気を用いたポーラスPTFE内部の親水化 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
1 |
305 |
1998 |
一般発表 |
単結晶3C−SiCのレジストレスパターンエッチング〔3〕 〜反応生成ガスの分析〜 |
第59回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
2 |
306 |
1998 |
一般発表 |
撥水性を目的としたポリイミドの表面改質 |
Optics Japan ’98 講演予稿集,岡山理科大学 |
国内 |
日本光学会 |
1998年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
307 |
1998 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポリイミド基板と銅薄膜の直接結合 |
平成10年度 神奈川県産学公流研究発表会,神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
2 |
308 |
1998 |
一般発表 |
ArFレーザーによるポーラステフロン内部の親水性及び親油性化 |
平成10年度 神奈川県産学公交流研究発表会 神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
水津 秀行
|
2 |
309 |
1998 |
一般発表 |
SiO2膜の室温形成 |
平成10年度 神奈川県産学公流研究発表会,神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
1 |
310 |
1998 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたZnS膜の形成 |
平成10年度 神奈川県産学公流研究発表会,神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
野見山 洋一
|
2 |
311 |
1998 |
一般発表 |
紫外光を用いたポリイミド表面のフッ化 |
平成10年度 神奈川県産学公交流研究発表会 神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
312 |
1998 |
一般発表 |
紫外光を用いたポリカーボネートのフッ素化 |
平成10年度 神奈川県産学公交流研究発表会 神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
高草木 宏昌
|
2 |
313 |
1998 |
一般発表 |
集積回路形成を目的としたSiCの光化学エッチング |
平成10年度神奈川県産学公流研究発表会,神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
2 |
314 |
1998 |
一般発表 |
水蒸気による多孔質PTFEフィルム内部の親水化処理 |
平成10年度 神奈川県産学交流研究発表会 神奈川産総研 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1998年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
2 |
315 |
1998 |
一般発表 |
Fluorination of polyimide sheet surface by using Xe2* excimer lamp lamp and CF4 |
The 194th Meeting of ECS '98 (Boston) USA |
国際 |
The Electrochemical Society, Inc. |
1998年11月 |
共同 |
M. Murahara |
T Ikegame
|
0 |
316 |
1998 |
一般発表 |
Formation of transparent SiO2 thin film at room temperature with 172nm Xe2* excimer lamp irradiation |
The 194th Meeting of ECS '98 (Boston) USA |
国際 |
The Electrochemical Society, Inc. |
1998年11月 |
共同 |
M. Murahara |
H Iizuka
|
0 |
317 |
1998 |
一般発表 |
Photo-induced hydrophilic treatment of porous fluoropolymer film by using H2O vapor |
The 194th Meeting of ECS '98 (Boston) USA |
国際 |
The Electrochemical Society, Inc. |
1998年11月 |
共同 |
M. Murahara |
S Ito
|
0 |
318 |
1998 |
一般発表 |
Photochemical formation of Cu thin films on polyimide surface using ArF excimer laser |
The 194th Meeting of ECS '98 (Boston) USA |
国際 |
The Electrochemical Society, Inc. |
1998年11月 |
共同 |
M. Murahara |
M Tomita
|
0 |
319 |
1998 |
一般発表 |
Photochemical pattern etching of SiC with NF3 |
The 194th Meeting of ECS '98 (Boston) USA |
国際 |
The Electrochemical Society, Inc. |
1998年11月 |
共同 |
M. Murahara |
T Mori
|
0 |
320 |
1998 |
一般発表 |
ArF laser and Xe2* excimer lamp induced photochemical fluorination of polyimide film |
MRS Fall Meeting, Boston, USA |
国際 |
Materials Research Society |
1998年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T Ikegame
|
0 |
321 |
1998 |
一般発表 |
Circuit pattern Cu deposition on polyiide surface using ArF excimer laser |
MRS Fall Meeting, Boston, USA |
国際 |
Materials Research Society |
1998年12月 |
共同 |
M. Murahara |
M Tomita
|
0 |
322 |
1998 |
一般発表 |
Inner pore of porous fluoropolymer to hydrophilic by using UV light and H2O vapor |
MRS Fall Meeting, Boston, USA |
国際 |
Materials Research Society |
1998年12月 |
共同 |
M. Murahara |
S Ito
|
0 |
323 |
1998 |
一般発表 |
Physical behavior of fluorine atoms in the fabricated transpare SiO2 thin film at room temperature |
MRS Fall Meeting, Boston, USA |
国際 |
Materials Research Society |
1998年12月 |
共同 |
M. Murahara |
H Iizuka
|
0 |
324 |
1998 |
一般発表 |
3c−SiC基板のレーザーエッチング 〜反応生成物とエッチング効果〜 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
2 |
325 |
1998 |
一般発表 |
エキシマランプ/ArFレーザー照射によるポーラスPTFEフィルムの親水性代 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
0 |
326 |
1998 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム上への銅回路パターンの直接形成 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
1 |
327 |
1998 |
一般発表 |
ポリイミドフィルム表面の撥水性化 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
328 |
1998 |
一般発表 |
紫外光照射によるポリカーボネートのフッ素化 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
高草木 宏昌
|
2 |
329 |
1998 |
一般発表 |
透明SiO2膜形成とアニールによる屈折率制御 |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
1 |
330 |
1998 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたポリイミドフィルム上への銅回路パターンの直接形成(2) |
第46回応用物理関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
1 |
331 |
1998 |
一般発表 |
液面バリア放電による誘電液体内EHD現象に関する研究 第3報 シュリーレン法によるEHD流動の可視化 |
平成11年電気学会全国大会 |
国内 |
電気学会 |
1999年3月 |
共同 |
大山 龍一郎
|
井上 孝介
|
1 |
332 |
1998 |
一般発表 |
紫外光を用いたポリイミドフィルム表面へのフッ素化(2) |
第46回応用物理学関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
333 |
1998 |
一般発表 |
室温下で形成した低誘電率SiO2膜(3) |
第46回応用物理学関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
1 |
334 |
1998 |
一般発表 |
生体膜形成を目的としたポーラスPTFE内部へのOH基置換 |
第46回応用物理学関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
2 |
335 |
1998 |
一般発表 |
単結晶3C−SiCのレジストレスパターンエッチング〔4〕〜フッ酸の効果〜 |
第46回応用物理学関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
2 |
336 |
1998 |
シンポジウム発表 |
透明SiO2保護膜の室温形成 |
レーザー研シンポジウム’98 共同研究成果報告書 |
国内 |
大阪大学 レーザー核融合研究センター |
1998年4月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
337 |
1998 |
司会・座長・コメンテーター |
光設計・光学素子・材料 |
第59回応用物理学会学術講演会 広島大学 |
国内 |
|
1998年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
338 |
1998 |
司会・座長・コメンテーター |
レーザープロセッシング(4)/デポジション |
レーザー学会学術講演会第19回年次大会・名古屋 |
国内 |
レーザー学会 |
1999年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
339 |
1998 |
司会・座長・コメンテーター |
光計測(4ZB) |
第46回応用物理学関係連合講演会,東京理科大学・野田キャンパス |
国内 |
応用物理学会 |
1999年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
340 |
1998 |
特別講演・招待講演 |
大学からの提案 |
Inter Opto ’98,光産業ベンチャービジネスセミナー,幕張メッセ |
国内 |
財団法人 光産業技術振興協会 |
1998年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
341 |
1997 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによる多孔質フッ素樹脂フィルム内部の親水化処理 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
3 |
342 |
1997 |
一般発表 |
Si/SiO2の高選択比エッチング |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月 正貴
|
3 |
343 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプ、KrFエキシマレーザー併用照射によるSiCのレジストレスエッチング |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
3 |
344 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプ・エキシマレーザーによるAl表面の光酸化 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
345 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプ光による透明SiO2膜室温形成 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
2 |
346 |
1997 |
一般発表 |
エキシマレーザー・エキシマランプを用いた熱酸化シリコン膜のレジストレスエッチング |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
中田 公宏
|
2 |
347 |
1997 |
一般発表 |
ビームホモジナイザーを用いたテフロンの表面改質と置換基濃度コントロール |
レーザー学会研究会報告 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
2 |
348 |
1997 |
一般発表 |
ホモジナイザーを用いたフッ素樹脂の置換基濃度コントロール |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
2 |
349 |
1997 |
一般発表 |
172nmエキシマランプを用いた透明SiO2膜の室温形成〜Si基板表面の自然酸化膜エッチング〜 |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
2 |
350 |
1997 |
一般発表 |
172nmエキシマランプを用いた透明SiO2膜の室温形成〜膜厚の照射時間依存性〜 |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
351 |
1997 |
一般発表 |
ArFレーザーによるテフロン上へのCu膜形成 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
池亀 忠広
|
3 |
352 |
1997 |
一般発表 |
Xe2 エキシマランプとArFエキシマレーザーの併用照射によるフッ素樹脂の表面改質 |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
4 |
353 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプによるフッ素樹脂の表面改質 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
3 |
354 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプ光によるポリイミドの親水化処理 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
石井 茂美
|
2 |
355 |
1997 |
一般発表 |
シリンドリカルレンズを用いたテフロンの大面積表面改質 |
Optics Japan’97 |
国内 |
日本光学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
2 |
356 |
1997 |
一般発表 |
多孔質PTFEフィルム内部の置換基制御 |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
3 |
357 |
1997 |
一般発表 |
単結晶3C−SiCのレジストレスパターンエッチング |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
3 |
358 |
1997 |
一般発表 |
Economical surface modification of fluorocarbon resin for hydrophilic property with preliminary modification by using 172nm Xe2* excimer lamp |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1997年12月 |
共同 |
M. Murahara |
K. Hatao |
0 |
359 |
1997 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical modification of porous PTFE for desired properties |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1997年12月 |
共同 |
M. Murahara |
S. Ito |
0 |
360 |
1997 |
一般発表 |
Formation of transparent SiO2 thin film at room temperature with Xe2* excimer lamp irradiation |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1997年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Okamoto |
0 |
361 |
1997 |
一般発表 |
Photochemical pattern etching of single-crystalline 3C-SiC |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1997年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Mori |
0 |
362 |
1997 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポーラスPTFEフィルム内部の置換基制御 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
3 |
363 |
1997 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポリイミド表面への銅薄膜形成 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
石井 茂美
|
4 |
364 |
1997 |
一般発表 |
NF3/O2の光化学反応の不思議 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
365 |
1997 |
一般発表 |
SiO2膜形成を目的としたSi表面の光化学的クリーニング |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
4 |
366 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプ・エキシマレーザー併用照射によるフッ素樹脂の効果的表面改質 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
4 |
367 |
1997 |
一般発表 |
テフロンはこれまで何故接着出来なかったか |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
368 |
1997 |
一般発表 |
テフロン表面への親水基置換とエネルギー密度依存性 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
3 |
369 |
1997 |
一般発表 |
酸素引き抜き反応と保護膜形成反応を同時進行させたSiO2のレジストレス光エッチング |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
中田 公宏
|
2 |
370 |
1997 |
一般発表 |
酸素引き抜き反応によるSiO2の光エッチング |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
望月 正貴
|
3 |
371 |
1997 |
一般発表 |
単結晶3C−SiCのレジストレスパターンエッチング |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
3 |
372 |
1997 |
一般発表 |
逐次酸化還元による透明SiO2の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第18回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1998年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
4 |
373 |
1997 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるポリイミド表面への銅薄膜形成 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
富田 雅明
|
4 |
374 |
1997 |
一般発表 |
Xe2*エキシマランプとArFエキシマレーザーの併用照射によるフッ素樹脂の連続表面改質 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
3 |
375 |
1997 |
一般発表 |
エキシマランプによる透明SiO2の室温形成〜膜のアニール効果 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
4 |
376 |
1997 |
一般発表 |
ポーラスPTFEへの官能基置換制御 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
3 |
377 |
1997 |
一般発表 |
室温下で形成した透明SiOn膜の光学特性 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
飯塚 仁志
|
4 |
378 |
1997 |
一般発表 |
単結晶3C−SiCのレジストレスパターンエッチング 〜表面励起光依存性〜 |
第45回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1998年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
3 |
379 |
1997 |
特別講演・招待講演 |
ArF laser-induced photochemical surface modification of fluororesin (invited) |
1997 Conference on Lasers and Electro-Optics/Pacific Rim |
国内 |
Optical Society of America |
1997年7月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
380 |
1997 |
特別講演・招待講演 |
エキシマランプを用いた材料の表面改質 |
第58回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1997年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
381 |
1997 |
特別講演・招待講演 |
レーザーによるプラスチックの表面改質技術 |
第1回 光産業ベンチャービジネス交流フォーラム |
国内 |
(財)光産業技術振興協会 |
1998年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
382 |
1997 |
シンポジウム発表 |
透明SiO2保護膜の室温形成 |
レーザー研シンポジウム’98 |
国内 |
大阪大学レーザー研 |
1998年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
383 |
1997 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーを用いたテフロンの強接着付与 |
第30回「接合・複合」分科会 |
国内 |
(社)日本塑性加工学会 |
1997年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
384 |
1996 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical large area surface modification on teflon to improve adhesive strength |
Asian Phtochemistry Conference |
国際 |
Department of Chemistry, Hong Kong Technical University |
1996年6月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
385 |
1996 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成(〓) |
第57回応用物理学会学術講演会講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
1 |
386 |
1996 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング〔〓〕〜NF3の光分解強度依存性〜 |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
4 |
387 |
1996 |
一般発表 |
エキシマランプの発光波長を生かした光化学反応とその効果的応用 |
電気学会 電子・情報・システム部門大会 講演論文集 |
国内 |
社団法人電気学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
2 |
388 |
1996 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるアルミニウムの強制酸化膜の形成とその電気的特性 |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
(社)応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
3 |
389 |
1996 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成(6) |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
(社)応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
390 |
1996 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる多孔質フッ素樹脂フィルム内部の親水化と水透過性の向上 |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
(社)応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
4 |
391 |
1996 |
一般発表 |
シリコーン樹脂の親水化を目的とした光化学的表面改質 |
第57回応用物理学会学術講演会講演予稿集 |
国内 |
応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 幸司
|
4 |
392 |
1996 |
一般発表 |
フッ素樹脂フィルムの接着性を目的とした連続表面改質装置の開発 |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
(社)応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
3 |
393 |
1996 |
一般発表 |
フッ素樹脂フィルムの染着性を目的とした一括露光装置の開発 |
第57回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
(社)応用物理学会 |
1996年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
394 |
1996 |
一般発表 |
Development of continuation surface modification system of fluorocarbon resin for strong adhesion |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1996年12月 |
共同 |
M. Murahara |
K. Hatao |
0 |
395 |
1996 |
一般発表 |
Growth of transparent SiO2 thin film on silicon at room temperature by using 172nm Xe2 excimer lamp |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1996年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Suzuki |
0 |
396 |
1996 |
一般発表 |
High resolution displacement of functional groups to fluorocarbon resin surface by using ArF excimer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1996年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Shimizu |
0 |
397 |
1996 |
一般発表 |
Open air fabrication of Al203 thin films at room temperature |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1996年12月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Okamoto |
0 |
398 |
1996 |
一般発表 |
Development of continuous surface modification system of fluorocarbon resin for powerful adhesion |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
K. Hatao |
1 |
399 |
1996 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical hydrophilication of porous fluorocarbon polymers film |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
S.Ito
|
3 |
400 |
1996 |
一般発表 |
Growth of transparent SiO2 thin film on silicon by using 172nm Xe2 excimer lamp at room temperature |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Suzuki |
1 |
401 |
1996 |
一般発表 |
Photochemical pattern etching of SiC with NF3 |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Mori |
3 |
402 |
1996 |
一般発表 |
Photochemical modification on silicone resin surface with excimer laser irradiation |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
K. Suzuki |
3 |
403 |
1996 |
一般発表 |
The surface modification uniformly of fluorocarbon resin to be hydrophilic property by using ArF excimer laser |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Shimizu |
1 |
404 |
1996 |
一般発表 |
Wet oxidization Al203 thin films with UV light irradiation |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Okamoto |
1 |
405 |
1996 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成(〓) |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
2 |
406 |
1996 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング[〓]〜エッチング後の反応ガスの測定〜 |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
3 |
407 |
1996 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる多孔質フッ素樹脂フィルム内部の親水化と水透過性の向上〓 |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
3 |
408 |
1996 |
一般発表 |
フッ素フィルムの染着性を目的とした均一露光装置の開発 |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
409 |
1996 |
一般発表 |
紫外光照射によるアルミニウムの強制酸化層の形成 |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
3 |
410 |
1996 |
一般発表 |
染着性を目的としたエキシマランプによるフッ素樹脂の表面改質 |
第44回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1997年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
3 |
411 |
1996 |
特別講演・招待講演 |
Excimer laser-induced photochemical defluorination and substitution of functional groups on teflon surface |
Asian Photochemistry Conference |
国際 |
Department of Chemistry, Hong Kong Technical University |
1996年6月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
412 |
1996 |
特別講演・招待講演 |
化学反応をコントロールする紫外レーザーと応用 |
第7回若手技術者と学生のためのレーザー応用セミナー |
国内 |
レーザー学会東京支部 |
1996年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
413 |
1996 |
特別講演・招待講演 |
紫外線照射光化学反応による表面改質 |
第62回 微小光学研究会 |
国内 |
微小光学研究グループ(応用物理学会) |
1996年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
414 |
1996 |
特別講演・招待講演 |
Ablation vs photo-chemical modification of teflon surface for adhesion |
International Workshop on Hard-Photon Technology |
国内 |
財団法人 新機能素子研究開発協会 |
1997年1月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
415 |
1996 |
特別講演・招待講演 |
フッ素樹脂の表面改質 |
中小企業産学技術交流会 |
国内 |
中小企業事業団 |
1997年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
416 |
1996 |
シンポジウム発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
1 |
417 |
1996 |
シンポジウム発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたフッ素樹脂の連続表面改質装置の開発 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
4 |
418 |
1996 |
シンポジウム発表 |
CHC1F2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング |
平成8年度 産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
2 |
419 |
1996 |
シンポジウム発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング |
産学公交流研究発表会資料 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
森 崇
|
4 |
420 |
1996 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂の光化学的表面改質と接着性の向上 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技総合研究所 |
1996年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
421 |
1996 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによる多孔質フッ素樹脂フィルム内部の親水化と水透過性の向上 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
伊藤 伸介
|
4 |
422 |
1996 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザー光を用いたテフロン表面へのCu薄膜の形成 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
423 |
1996 |
シンポジウム発表 |
シリコーン樹脂の親水化を目的とした光化学的表面改質 |
産学公交流研究発表会資料 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 幸司
|
2 |
424 |
1996 |
シンポジウム発表 |
ビームホモジナイザーを用いたテフロン表面への親水基の高分解能置換と親水化 |
産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
2 |
425 |
1996 |
シンポジウム発表 |
紫外光によるポリイミドの光化学的表面改質 |
平成8年度 産学公交流研究発表会 |
国内 |
神奈川県産業技術総合研究所 |
1996年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
426 |
1996 |
シンポジウム発表 |
SiCグレーディングの開発 |
レーザー研シンポジウム’97 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1997年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
427 |
1995 |
一般発表 |
ArF laser induced photochemical surface modification of polypropylene for adhesion by using tap water |
Pacific Rim Conference on Lasers and Electro-Optics, CLEO/Pacific Rim |
国際 |
Optical Society of America |
1995年7月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
428 |
1995 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成(〓) |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
5 |
429 |
1995 |
一般発表 |
CHClF2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング(〓) |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
4 |
430 |
1995 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストエッチング[〓]〜エッチャント圧力依存性〜 |
「第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
出納 真澄
|
4 |
431 |
1995 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング[〓] |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
4 |
432 |
1995 |
一般発表 |
エキシマランプによるアルミニウムの表面改質 |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
433 |
1995 |
一般発表 |
エキシマランプによるポリアセタールの表面改質 |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
2 |
434 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成(4) |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
435 |
1995 |
一般発表 |
細菌培養を目的としたテフロン表面の親水性化 |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
井上 陽子
|
2 |
436 |
1995 |
一般発表 |
紫外光によるチタンの強制酸化 |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
4 |
437 |
1995 |
一般発表 |
誘電体バリア放電ランプによるポリイミドの表面改質 |
第56回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1995年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
青池 政憲
|
3 |
438 |
1995 |
一般発表 |
Adhesive property enhancement by photochemical modification on polyimide sheet surface by irradiation with excimer lamp |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1995年11月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Okamoto |
3 |
439 |
1995 |
一般発表 |
Open air fabrication process of Cu thin films on teflon surface using ArF excimer laser irradiation |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1995年11月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
0 |
440 |
1995 |
一般発表 |
Photochemical etching on silicon-carbide by using KrF excimer laser and Xe excimer lamp |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1995年11月 |
共同 |
M. Murahara |
K. Hasegawa |
0 |
441 |
1995 |
一般発表 |
Use of excimer lamp for photochemical resistless etching of thermal oxide silicon layer substrate |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1995年11月 |
共同 |
M. Murahara |
N. Kamata |
0 |
442 |
1995 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるチタンの光化学的表面改質 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
443 |
1995 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたテフロンの大面積表面改質装置の開発 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
畑尾 健
|
2 |
444 |
1995 |
一般発表 |
CHCIF2を用いた熱酸化シリコン膜のドライエッチング〔〓〕 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
4 |
445 |
1995 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical defluorination and substitution of hydrophilic functional group on teflon surface |
BiOS’96 |
国際 |
SPIE |
1996年1月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
446 |
1995 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical modification of contact lens material for tear-affinity |
BiOS’96 |
国際 |
SPIE |
1996年1月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
2 |
447 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング〔〓〕 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
出納 真澄
|
4 |
448 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング〔〓〕 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
3 |
449 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング〔〓〕 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
4 |
450 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる多孔質PTFEの親水性化 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
井上 陽子
|
0 |
451 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたテフロン表面へのCu薄膜の選択形成 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
452 |
1995 |
一般発表 |
コンタクトレンズ材料を目的としたPMMA表面の親水性化 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
453 |
1995 |
一般発表 |
テフロンの表面改質における脱フッ素原子B、AI、Hの役割 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
454 |
1995 |
一般発表 |
細菌培養を目的としたフッ素樹脂表面の親水性化処理 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
井上 陽子
|
2 |
455 |
1995 |
一般発表 |
真空紫外光によるポリイミドの光化学的表面改質 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
456 |
1995 |
一般発表 |
透明SiO2膜の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第16回年次大会 |
国内 |
社団法人 レーザー学会 |
1996年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
4 |
457 |
1995 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成(〓) |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
5 |
458 |
1995 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるテフロン表面の親水化―脱フッ素原子B,Al,Hの比〓― |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
M.Murahara
|
清水 友明
|
2 |
459 |
1995 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたテフロンの表面改質と大面積改質装置の開発 |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
M.Murahara
|
畑尾 健
|
2 |
460 |
1995 |
一般発表 |
CHCIF2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング〔〓〕 |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
461 |
1995 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング〔〓〕 |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
|
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
3 |
462 |
1995 |
一般発表 |
Open air fabrication process of Cu thin films on fluorocarbon resin surface by excimer laser irradiation |
Photon Technology Workshop |
国内 |
新エネルギー・産業技術総合開発機構(社)日本オプトメカトロニクス協会(財)新機能素子研究開発協会 |
1996年3月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
1 |
463 |
1995 |
一般発表 |
Photochemical pattern etching on silicon carbide by using KrF excimer laser and Xe2 excimer lamp |
Photon Technology Workshop |
国内 |
新エネルギー・産業技術総合開発機構(社)日本オプトメカトロニクス協会(財)新機能素子研究開発協会 |
1996年3月 |
共同 |
M. Murahara |
K.Hasegawa
|
0 |
464 |
1995 |
一般発表 |
Photochemical modification on polyimide film surface with excimer lamp irradiation |
Photon Technology Workshop |
国内 |
新エネルギー・産業技術総合開発機構(社)日本オプトメカトロニクス協会(財)新機能素子研究開発協会 |
1996年3月 |
共同 |
M. Murahara |
T. Okamoto |
0 |
465 |
1995 |
一般発表 |
Photochemical resistless etching of thermal silicon oxide substrate by using an excimer lamp |
Photon Technology Workshop |
国内 |
新エネルギー・産業技術総合開発機構(社)日本オプトメカトロニクス協会(財)新機能素子研究開発協会 |
1996年3月 |
共同 |
M. Murahara |
N.Kamata
|
0 |
466 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPMMAの表面改質 |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
467 |
1995 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成(5) |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
468 |
1995 |
一般発表 |
紫外光によるチタンの光化学的表面改質 |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡本 俊夫
|
2 |
469 |
1995 |
一般発表 |
実験教育からもの作りへ |
第43回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
社団法人 応用物理学会 |
1996年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
470 |
1995 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーを用いたテフロン表面への官能基の置換と接着性向上 |
第43回ラドテック研究会講演会 |
国内 |
ラドテック研究会 |
1995年4月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
471 |
1995 |
特別講演・招待講演 |
MRS学会報告 |
エキシマレーザー利用技術研究委員会 |
国内 |
社団法人 日本工業技術振興協会 |
1996年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
472 |
1995 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂表面へのCu薄膜の選択形成(〓) |
理研シンポジウム 第18回 レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究所グループ |
1996年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
473 |
1995 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによる固体材料表面の光化学的改質 |
理研シンポジウム 第5回 反応制御による表面加工技術 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1996年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
474 |
1995 |
シンポジウム発表 |
細菌培養を目的としたフッ素樹脂表面の親水性化 |
理研シンポジウム 第18回 レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1996年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
井上 陽子
|
2 |
475 |
1995 |
シンポジウム発表 |
レーザービームホモジナイズ用多面体プリズムの製作 |
レーザー研シンポジウム’96 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1996年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
476 |
1995 |
シンポジウム発表 |
レーザープロセッシング |
レーザー研シンポジウム’96 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1996年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
477 |
1994 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical defluorination and substitution of functional group onto fluororesin surface for adhesion |
International Symposium on High Power Laser and Laser Applications |
国際 |
SPIE |
1994年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
478 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるポリエチレン表面の光化学的改質 |
第11回 フォトポリマーコンファレンス |
国内 |
The Technical Association of Photopolymers Japan |
1994年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
479 |
1994 |
一般発表 |
Photochemical modification of teflon using water to generate adhesive properties |
The World-Wide Forum of Lasers and Electro-Optics, CLEO/Europe EQEC |
国際 |
Optical Society of America and European Optical Society |
1994年8月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
480 |
1994 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるCHClF2の光分解とSiO2の光化学エッチング |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
4 |
481 |
1994 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成 |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
3 |
482 |
1994 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによる合成石英ガラス誘起吸収 |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
3 |
483 |
1994 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによる透明SiO2膜の室温形成(〓) |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
2 |
484 |
1994 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical surface treatment of teflon for adhesion |
10th International Symposium on Gas Flow and Chemical Lasers |
国際 |
Universitat Stuttgart |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
485 |
1994 |
一般発表 |
NF3を用いたSiCのレジストレスエッチング |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
3 |
486 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成(2) |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
487 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのSi膜の形成 |
第55回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
488 |
1994 |
一般発表 |
Characteristics of absorption bands with fused silica glass after x-ray irradiation |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1994年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
0 |
489 |
1994 |
一般発表 |
Deposition of copper thin films on teflon surface by excimer laser photolysis |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1994年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
490 |
1994 |
一般発表 |
Self-digital deposition of transparent SiO2 thin films with ArF excimer laser irradiation at room temperature |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1994年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
0 |
491 |
1994 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによる透明SiO2膜の室温形成(〓) |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
2 |
492 |
1994 |
一般発表 |
CHClF2を用いた熱酸化シリコン膜のドライエッチング(〓) |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
493 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
2 |
494 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるアルミニウム表面の光化学的改質 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
495 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とCu薄膜の形成 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
496 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのSi膜の室温形成 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
497 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの誘起吸収・発光特性 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
2 |
498 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる歯科用金銀パラジウム合金の表面改質 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
本田 尚葆
|
0 |
499 |
1994 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー照射時に生じる青色発光の生成原因 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
〓生 伸
|
0 |
500 |
1994 |
一般発表 |
透明SiO2膜の室温成長とコンタクトホールの同時形成 |
平成7年レーザー学会学術講演会第15回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1995年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
2 |
501 |
1994 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるSiO2膜の室温形成 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 剛臣
|
3 |
502 |
1994 |
一般発表 |
CHClF2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
503 |
1994 |
一般発表 |
KrFレーザー/Xe2*エキシマランプ併用照射によるSiCのレジストレスエッチング |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
長谷川 浩一
|
2 |
504 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるアルミニウムの光化学的表面改質 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
505 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成(3) |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
506 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのSi膜の形成(2) |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
3 |
507 |
1994 |
一般発表 |
タイプ〓シリカガラスのArFレーザー誘起B2α帯 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
0 |
508 |
1994 |
一般発表 |
タイプ〓シリカガラスのX線誘起B2α帯 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
0 |
509 |
1994 |
一般発表 |
光化学反応による歯科用貴金属合金の表面改質 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
本田 尚葆
|
0 |
510 |
1994 |
一般発表 |
合成石英ガラスのArFレーザー照射誘起青色発光の原因 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
0 |
511 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
Excimer laser induced photochemical modification of teflon for adhesion |
International Conference on Materials Processing and Advanced Application |
国際 |
Engineering Foundation |
1994年5月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
512 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーによる固体表面の改質 |
紫外レーザーの産学応用 |
国内 |
電気学会関西支部 |
1994年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
513 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
化学・医用産業への応用(有機材料の表面改質) |
紫外線レーザの光学応用 ハイテク推進セミナー |
国内 |
(社団法人)生産技術振興協会 大阪大学生産技術研究会 |
1994年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
514 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザ加工の最近の研究 |
第133回 レーザー協会研究会「最近のレーザ加工研究の成果」 |
国内 |
レーザ協会 |
1994年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
515 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
フッ素樹脂のレーザー表面改質 |
フォトポリマー懇話会例会(第100回)フッ素樹脂の新展開 |
国内 |
フォトポリマー懇話会 |
1994年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
516 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
科学する心―不可能を可能にする― |
歯科技工士生涯研修基本研修課程講習会 |
国内 |
東京都衛生局・〓東京都歯科技工士会 |
1994年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
517 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
Excimer laser induced photochemical defluorination and substitution of functional group on teflon surface |
International Conference on Lasers |
国際 |
Lasers’94 |
1994年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
518 |
1994 |
シンポジウム発表 |
レーザービームホモジナイザーの開発 |
レーザー研 シンポジウム 1994 |
国内 |
大阪大学 ICFフォーラム |
1994年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
519 |
1994 |
シンポジウム発表 |
レーザービームホモジナイザーの開発(〓)エキシマレーザー光化学のために |
レーザー研シンポジュウム’94 共同研究成果報告書 |
国内 |
大阪大学 レーザー核融合研究センター |
1994年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
520 |
1994 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるテフロン上へのSi原子の置換 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第17回)」 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1995年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
清水 友明
|
2 |
521 |
1994 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂表面へのCu薄膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第17回)」 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1995年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
522 |
1994 |
シンポジウム発表 |
医用材料を目的としたテフロンの親水性化 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第17回)」 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1995年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
金子 秀行
|
2 |
523 |
1994 |
シンポジウム発表 |
真空紫外光による固体材料表面の光化学的改質 |
理研シンポジウム 第4回 反応制御による表面加工技術 |
国内 |
理化学研究所 |
1995年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
524 |
1994 |
シンポジウム発表 |
真空紫外光によるポリマー表面への官能基置換と接着性の向上 |
第42回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1995年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
525 |
1994 |
一般発表 |
エキシマレーザによる固体材料の表面改質 |
第12回レーザコンポネント技術調査専門委員会 |
国内 |
(社団法人)電気学会 |
1994年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
526 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
なぜエキシマレーザーか |
エキシマレーザー治療研究委員会 |
国内 |
社団法人 日本工業技術振興協会 |
1994年4月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
527 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーをいかに使いこなすか |
エキシマレーザー利用技術研究委員会 第17回定例会 |
国内 |
社団法人 日本工学技術振興協会 |
1994年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
528 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
レーザー光を用いた材料表面の改質と接着性、染着性の向上 |
神奈川県湘南地域産業公交流推進技術セミナー |
国内 |
神奈川県湘南地区行政センター商工部 |
1994年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
529 |
1994 |
特別講演・招待講演 |
Bonding teflon on stainless steel processing teflon surface by ArF excimer laser with boron complex |
特別講議 |
国際 |
カリフオルニア大学 アーバイン校 |
1994年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
530 |
1993 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるポリイミドの表面改質 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青池 政憲
|
4 |
531 |
1993 |
一般発表 |
172nm誘電体バリア放電ランプによるポリエチレンフィルムの染着性処理 |
第54回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
4 |
532 |
1993 |
一般発表 |
172nm誘電体バリヤ放電ランプによるテフロンの親水性処理 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
4 |
533 |
1993 |
一般発表 |
172nm誘電体バリヤ放電ランプによるポリアセタールの表面改質 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
5 |
534 |
1993 |
一般発表 |
C−H結合を有するプラスチックの光化学的表面改質 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
535 |
1993 |
一般発表 |
CHClF2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
536 |
1993 |
一般発表 |
NFOによるSiO2/Si高選択比エッチング |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
2 |
537 |
1993 |
一般発表 |
X線照射により改質した合成石英ガラスの245nm吸収とKrFエキシマレーザー誘起発光特性 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
2 |
538 |
1993 |
一般発表 |
ZnS薄膜の選択成長を目的としたZn核の初期形成効果 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
1 |
539 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるステンレス表面の光化学的改質と接着性の向上 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
540 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる歯科用貴金属合金の表面改質 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
本田 尚葆
|
1 |
541 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる透明SiO2膜の室温形成(〓) |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
3 |
542 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザによるアルミニウム材の表面改質 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
543 |
1993 |
一般発表 |
シリコーン樹脂の光化学的表面改質 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
544 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光化学的表面改質―NaBH4溶液を用いた親水基および親油基の置換― |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
545 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光化学的表面改質―表面の脱フッ素反応― |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
546 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光改質とX線照射効果 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
547 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光改質と接着性の向上 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
548 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光改質と接着性の向上(2) |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青池 政憲
|
1 |
549 |
1993 |
一般発表 |
テフロン表面へのSi膜の成長(〓) |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
550 |
1993 |
一般発表 |
フッ素樹脂の光化学的表面改質 |
第54回 応用物理学会術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
551 |
1993 |
一般発表 |
ポリエチレンの光化学的表面改質 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
552 |
1993 |
一般発表 |
ポリプロピレンの光化学的表面改質と接着性の向上 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
1 |
553 |
1993 |
一般発表 |
レーザーCVD法によるZnの核形成とZnS薄膜の成長 |
電気学会 光・量子デバイス研究会 |
国内 |
電気学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
0 |
554 |
1993 |
一般発表 |
金属表面の光化学的表面改質と接着性の向上 |
第54回 応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
555 |
1993 |
一般発表 |
誘電体バリア放電を利用したXe2*エキシマランプによるPETフィルムの表面改質 |
第54回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
五十嵐 龍志
|
4 |
556 |
1993 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical surface modification of fluororesin to improve adhesive strength |
1st International Conference on Photo-excited Processes and Applications |
国内 |
Photo-excited Processes in Engineering |
1993年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
557 |
1993 |
一般発表 |
Selective etching of SiO2/Si by nitrosyl fluoride generated with excimer laser irradiation |
1st International Conference on Photo-excited Processes and Applications |
国内 |
Photo-excited Processes in Engineering |
1993年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
558 |
1993 |
一般発表 |
Excimer laser induced photochemical modification and adhesive improvement of fluororesin surface |
International Symposium on Polymer Surface Modification: Relevance to Adhesion |
国際 |
IBM Company |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
559 |
1993 |
一般発表 |
Growth of silicon films onto fluororesin surface by ArF excimer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
2 |
560 |
1993 |
一般発表 |
High selectiv etching of SiO2/Si by ArF excimer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
0 |
561 |
1993 |
一般発表 |
KrF excimer laser induced photochemical modification of polyphenylene sulfide surface into hydrophilic property |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
562 |
1993 |
一般発表 |
Photochemical surface modification of polypropylene for adhesion by using excimer laser |
International Symposium on Polymer Surface Modification: Relevance to Adhesion |
国際 |
IBM Company |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
563 |
1993 |
一般発表 |
Selective deposition of ZnS thin films by KrF excimer laser on patterned Zn seeds |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1993年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
0 |
564 |
1993 |
一般発表 |
Photochemical modification of fluorocarbon resin surface to adhere with epoxy resin |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1993年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
565 |
1993 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによる透明SiO2膜の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
3 |
566 |
1993 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いて生成した NFOによるSiO2/Si高選択比エッチング |
平成6年レーザー学会学術講演会第14回 年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
2 |
567 |
1993 |
一般発表 |
X線により改質した合成石英ガラスの吸収帯と発光帯の測定 |
レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
3 |
568 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーとCHClF2を用いた SiO2のドライエッチング |
平成6年レーザー学会学術講演会第14回 年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
569 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる ポリエチレンの表面改質 |
平成6年レーザー学会学術講演会第14回 年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
安部 徹彦
|
1 |
570 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるステンレス鋼の表面改質と接着性の向上 |
平成6年レーザー学会学術講演会第14回 年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
571 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面の光化学的改質と接着の向上 |
平成6年レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
572 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面上へのシリコン膜の成長 |
レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
573 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたポリイミド表面の光化学的改質と接着性の向上 |
レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
青池 政憲
|
1 |
574 |
1993 |
一般発表 |
レーザーCVD法によるZuの核形成とZuS薄膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第14回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1994年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
2 |
575 |
1993 |
一般発表 |
CHClF2を用いた熱酸化シリコン膜の光化学エッチング[〓] |
第41回 応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
鎌田 尚之
|
2 |
576 |
1993 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面へのCu薄膜の形成 |
第41回 応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
577 |
1993 |
一般発表 |
テフロンの光改質と接着性の向上(4) |
第41回 応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
578 |
1993 |
一般発表 |
テフロンチューブの光改質と接着性の向上 |
第41回 応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
〓西 広明
|
2 |
579 |
1993 |
一般発表 |
紫外光による215nm吸収帯の強制回復 |
第41回 応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1994年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
2 |
580 |
1993 |
特別講演・招待講演 |
光化学反応を主体としたエキシマレーザープロセッシング |
レーザー学会 第196回研究会“短波長レーザー” |
国内 |
レーザー学会 |
1993年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
581 |
1993 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーは一般のレーザー(Ar,YAG CO2,Dye)とどこが違うか?―レーザーの特質と医用材料形成へのアプローチ― |
第18回東海大学・神奈川県眼科医会合同カンファレンス |
国内 |
神奈川県眼科医会・東海大学医学部眼科 |
1993年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
582 |
1993 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザを生産ラインへ導入するための条件と問題点 |
最近のレーザプロセス技術 |
国内 |
東京都立工業技術センター |
1994年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
583 |
1993 |
シンポジウム発表 |
レーザービームホモジナイザーの開発(〓) |
レーザー研シンポジウム’93 共同研究成果報告書 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1993年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
584 |
1993 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂の表面改質と接着性の向上 |
理研シンポジウム 第16回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 |
1994年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
585 |
1993 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるポリエチレンの表面改質 |
理研シンポジウム 第16回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 |
1994年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
安部 徹彦
|
2 |
586 |
1993 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによる固体材料表面の光化学的改質 |
理研シンポジウム 第3回反応制御による表面加工技術 |
国内 |
理化学研究所 |
1994年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
587 |
1993 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーを用いたテフロン表面上へのSi膜の成長 |
理研シンポジウム 第16回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 |
1994年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
588 |
1993 |
一般発表 |
レーザービームホモジナイザーの開発 |
レーザー研シンポジウム 1993 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1993年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
589 |
1993 |
一般発表 |
レーザー照射一様化 |
レーザー研シンポジウム 1993 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1993年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
590 |
1993 |
特別講演・招待講演 |
レーザーによるフッ素樹脂の表面改質 |
第10回フォトポリマーコンファレンス |
国内 |
フォトポリマー懇話会 |
1993年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
591 |
1992 |
一般発表 |
Laser modification of inner wall of teflon tube for artificial blood vessel |
CLEO '92 |
国際 |
Optical Society of America |
1992年5月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
592 |
1992 |
一般発表 |
Pattern deposition of transparent SiO2 films on Si wafer at room temperature by excimer laser |
CLEO '92 |
国際 |
Optical Society of America |
1992年5月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
593 |
1992 |
一般発表 |
Resistless pattern etching of SiO2 by KrF laser and CF2 radicals |
CLEO '92 |
国際 |
Optical Society of America |
1992年5月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
1 |
594 |
1992 |
一般発表 |
Defluorination effects of teflon surface with boron or aluminum atoms for excimer laser induced chemical modification |
International Quantum Electronics Conference '92 |
国際 |
Optical Society of America |
1992年6月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
1 |
595 |
1992 |
一般発表 |
Two-photon decomposition of SiH4 and measurement of luminescence in VUV region |
International Quantum Electronics Conference '92 |
国際 |
Optical Society of America |
1992年6月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Takizawa |
0 |
596 |
1992 |
一般発表 |
NFOによるSiO2/Si〓選択比エッチング(〓) |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
597 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成(〓) |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
3 |
598 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるZnS薄膜の作製(〓) |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
3 |
599 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるNF3ガスを用いたSiCのレジストレスエッチング |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
2 |
600 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―Al化合物による水酸基の発現(〓)― |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
601 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) ―B(CH3)3とAl(CH3)3との親油性の比〓― |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
602 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とa−SiCの成長(〓) |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
2 |
603 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスのOH濃度と280nm発光帯 |
第53回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉門 義浩
|
1 |
604 |
1992 |
一般発表 |
フロンガスを用いた熱酸化シリコン膜のレジストレスパターンエッチング |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
605 |
1992 |
一般発表 |
異なる波長のエキシマレーザーを交互に照射した時の合成石英ガラスの280nm発光帯 |
第53回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
1 |
606 |
1992 |
一般発表 |
透明SiO2膜の室温形成 |
第53回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
1 |
607 |
1992 |
一般発表 |
テフロン表面の光改質とSiC化 |
電気学会 光・量子デバイス研究会 |
国内 |
電気学会 |
1992年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
1 |
608 |
1992 |
一般発表 |
ArF laser induced photochemical substitution of OH radicals into teflon surface using Al(OH)3 solution |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1992年12月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
3 |
609 |
1992 |
一般発表 |
Modification of fused silica materials for excimer laser optics |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1992年12月 |
共同 |
M. Murahara |
Y. Matsumoto |
1 |
610 |
1992 |
一般発表 |
ArF/KrFエキシマレーザー照射による245nm吸収帯と280nm発光帯 |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
1 |
611 |
1992 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いて生成したNFOによるSiO2/Si高選択比エッチング |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
2 |
612 |
1992 |
一般発表 |
NF3ガスを用いたSiCのレジストレスエッチング |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
2 |
613 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の成形(〓) −Al(CH3)3による導電性の改善− |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
5 |
614 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーとフロンガスを用いたSiO2のレジストレスパターンエッチング |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
615 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPPSの表面改質 |
レーザー学会第13回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
616 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −光改質された表面の接着効果− |
レーザー学会学術講演会第13回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
617 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −表面の脱フッ素反応− |
レーザー学会学術講演会第13回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
618 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−水酸化アルミニウムによる大気中での改質 |
レーザー学会第13回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
619 |
1992 |
一般発表 |
テフロン表面のSiCへの光改質とSi膜の成長 |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
620 |
1992 |
一般発表 |
核形成を用いたパターン状ZnS薄膜の作製 |
レーザー学会第13回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
3 |
621 |
1992 |
一般発表 |
合成石英ガラスのOH濃度とエキシマレーザー誘起発光特性の関係 |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
1 |
622 |
1992 |
一般発表 |
真空紫外域のスペクトル瞬間測定装置の試作とSiH4の2光子分解の測定 |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅野 晃
|
1 |
623 |
1992 |
一般発表 |
透明SiO2膜の室温形成 |
レーザー学会学術講演会第13年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
1 |
624 |
1992 |
一般発表 |
フッ素樹脂表面への官能基置換と機能性の発現 |
理研シンポジウム 第2回反応制御による表面加工技術 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1993年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
625 |
1992 |
一般発表 |
熱酸化Si膜のレーザーエッチング |
理研シンポジウム 第15回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1993年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
626 |
1992 |
一般発表 |
ArFとKrFエキシマレーザーを同時照射したときの合成石英ガラスの245nm吸収帯と280nm発光帯の挙動 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
3 |
627 |
1992 |
一般発表 |
CF2*による熱酸化シリコン膜のレジストレスパターンエッチング |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
628 |
1992 |
一般発表 |
NF3ガスを用いたSiCのレジストレスエッチング |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
3 |
629 |
1992 |
一般発表 |
NFOによるSiO2/Si高選択比エッチング |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
630 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
3 |
631 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるZnS薄膜の作製 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
3 |
632 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPPSの表面改質 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
633 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 −表面の脱フッ素反応− |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
634 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−Al化合物による親水性の発現 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
635 |
1992 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる透明SiO2膜の室温形成 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
津田 裕
|
2 |
636 |
1992 |
一般発表 |
テフロンの光改質と接着性の向上 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
637 |
1992 |
一般発表 |
テフロン表面へのSi膜の成長 |
第40回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1993年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
638 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
レーザーによる新機能材料開発 |
レーザーセミナー(レーザー学会20周年記念) |
国内 |
レーザー学会 |
1992年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
639 |
1992 |
シンポジウム発表 |
コーティング膜を高耐力化するための石英基盤材料の改質 |
レーザー研シンポジウム’92(レーザー核融合研究成果報告会) |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1992年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
640 |
1992 |
シンポジウム発表 |
レーザービームホモジナイザーの開発 |
レーザー研シンポジウム’92 (レーザー核融合研究成果報告会) |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1992年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
641 |
1992 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるパターン状SnO2膜の形成 −Al(CH3)3によるNa+イオンの抑制 |
理研シンポジウム 第15回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所・レーザー科学研究グループ |
1993年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
642 |
1992 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂の表面改質 −B(CH3)3とAl(CH3)3による脱フッ素反応と親油性の発現− |
理研シンポジウム 第15回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1993年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
643 |
1992 |
一般発表 |
発光および吸収スペクトルによる合成石英ガラスのレーザー誘起吸収帯発生メカニズムの解明 |
レーザー学会第192回研究会 《レーザー計測》 |
国内 |
レーザー学会 |
1993年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
644 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
機能性材料形成を得意とするレーザープロセッシング技術 |
第4回若手技術者と学生のためのレーザー応用セミナー |
国内 |
レーザー学会 |
1992年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
645 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
レーザーで機能性材料をつくる |
東海大学工学部第12回公開講座 《21世記は光の時代・レーザー技術の現状と将来》 |
国内 |
東海大学工学部 |
1992年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
646 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザー光による発光 |
光部品生産技術部会(92−5) |
国内 |
社団法人 日本オプトメカトロニクス協会 |
1992年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
647 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザーの産業応用 |
平成4年度第4回エキシマレーザワーキンググループ集会 |
国内 |
通産省大型プロジェクト・超先端加工システム技術研究組合 |
1993年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
648 |
1992 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザー利用の問題点とその展開 |
エキシマレーザー利用技術研究委員会 第9回定例会 |
国内 |
社団法人 日本工業技術振興協会 |
1993年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
649 |
1992 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーを用いたテフロン表面のSiCへの改質とSi膜の成長 |
理研シンポジウム 第15回レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1993年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
650 |
1992 |
その他 |
最近の短波長用レンズ材料とその応用 |
第1回電気学会レーザーコンポーネント技術調査専門委員会 |
国内 |
電気学会 |
1992年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
651 |
1991 |
一般発表 |
Dry developing of photo-resist by two color excimer laser |
CLEO '91 |
国際 |
Optical Society of America |
1991年5月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
652 |
1991 |
一般発表 |
2波長エキシマレーザーによるSiO2のレジストレスエッチング |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
3 |
653 |
1991 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解と発光特性(〓) ―真空紫外域でのSiH4の挙動― |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
3 |
654 |
1991 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによる結晶性Sicの回路パターンエッチング |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
3 |
655 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成(〓) ―Al(CH3)3による導電性の改善― |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
656 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるClF3ガスの光分解メカニズム(4) |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
3 |
657 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiO2の低温エッチング |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
658 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―Al化合物による水酸基の発現― |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
659 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −Al(CH3)3による親油性の発現− |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
660 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓)−親水性− |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
661 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−B化合物による水酸基の発現− |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
平野 茂樹
|
1 |
662 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とa−SiCの成長(〓) |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
663 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とその評価(〓)−B(CH3)3による親油性の発現− |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
664 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面改質とSnO2膜の成長 |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
宅間 基則
|
2 |
665 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるフロン12の光分解〓―ArFレーザーによる発光特性 |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
3 |
666 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた絶縁層とコンタクトホールの同時形成 |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
2 |
667 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーリソグラフィー用レジストのドライ現象 |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
2 |
668 |
1991 |
一般発表 |
エシキマレーザーCVD法によるZnS薄膜の作製 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
4 |
669 |
1991 |
一般発表 |
スート法シリカガラスのエキシマレーザー誘起発光・吸収特性 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
670 |
1991 |
一般発表 |
スート法シリカガラスのエキシマレーザー誘起発光・吸収特性に及ぼす雰囲気熱処理の効果 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
671 |
1991 |
一般発表 |
フッ化物結晶のArFエキシマレーザー照射特性(〓) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 高男
|
2 |
672 |
1991 |
一般発表 |
医療用材料形成を目的としたテフロン表面の光改質(〓) |
第52回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
673 |
1991 |
一般発表 |
極低温雰囲気における合成石英ガラスのエキシマレーザー発光特性 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
0 |
674 |
1991 |
一般発表 |
合成シリカガラスのエキシマレーザー誘起1.9eV発光帯 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
675 |
1991 |
一般発表 |
合成シリカガラスのエキシマレーザー誘起5.8eV吸収帯 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
676 |
1991 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性(〓) |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
遊橋 一雄
|
2 |
677 |
1991 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー用光学材料特性 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
1 |
678 |
1991 |
一般発表 |
紫外線照射合成石英ガラスの蛍光評価 |
第52回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
木村 佳子
|
2 |
679 |
1991 |
一般発表 |
Excimer laser induced 4.8eV absorption and 1.9eV emission bands in fused silicas |
MRS Fall Meeting '91 |
国際 |
Materials Research Society |
1991年12月 |
共同 |
M. Murahara |
葛生 伸
|
1 |
680 |
1991 |
一般発表 |
Excimer laser induced modification of teflon surface into amorphous silicon carbide |
MRS Fall Meeting '91 |
国際 |
Materials Research Society |
1991年12月 |
共同 |
M. Murahara |
八越 昌幸
|
1 |
681 |
1991 |
一般発表 |
Optical properties of soot remelted silica irradiation with excimer lasers |
MRS Fall Meeting '91 |
国際 |
Materials Research Society |
1991年12月 |
共同 |
M. Murahara |
松本 康孝
|
1 |
682 |
1991 |
一般発表 |
Resistless etching of SiO2 by two color excimer lasers |
MRS Fall Meeting '91 |
国際 |
Materials Research Society |
1991年12月 |
共同 |
M. Murahara |
小原 隆
|
0 |
683 |
1991 |
一般発表 |
Simultaneous fabrication of insulator and contact holes by excimer laser |
MRS Fall Meeting '91 |
国際 |
Materials Research Society |
1991年12月 |
共同 |
M. Murahara |
青森 繁
|
0 |
684 |
1991 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたフロン−12の光分解(3)−ArFレーザーによる発光特性− |
レーザー学会学術講演会第12年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
3 |
685 |
1991 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー光ビームホモジナイザーの開発 |
レーザー学会学術講演会第12年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
0 |
686 |
1991 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解と真空紫外域でのガスの挙動(〓) |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
4 |
687 |
1991 |
一般発表 |
SiH4の2光子分解過程と可視化 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
2 |
688 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成(〓) −Al(CH3)3による導電性の改善− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
3 |
689 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるパターン状Sno2膜の形成と導電性の改善 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第14回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
690 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるフッ化炭素膜の作製 |
レーザー学会学術講演会第12年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
691 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法を用いたZnS溝膜の作製 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
5 |
692 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPMMAの表面改質 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
693 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング擲 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
4 |
694 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiO2のレジストレスエッチング |
レーザー学会学術講演会第12年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
3 |
695 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓)−親水性− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
696 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓)−親油性− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
697 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−ホウ酸アンモニウムによる大気中での改質− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
698 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−ホウ酸水溶液による大気中での改質− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
平野 茂樹
|
2 |
699 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質−水酸化アルミニウムによる大気中での改質− |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
700 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面のSicへの改質 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
4 |
701 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるレーザーによるテフロン表面のSnO2への改質 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
宅間 基則
|
4 |
702 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
703 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた絶縁層とコンタクトホールの同時形成 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
1 |
704 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザー用PMMAレジストのドライ現像〓 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
田村 明男
|
1 |
705 |
1991 |
一般発表 |
スート法シリカガラスのArFエキシマレーザー光学特性 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
706 |
1991 |
一般発表 |
フッ化物結晶のエキシマレーザー誘起吸収・発光特性 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 高男
|
2 |
707 |
1991 |
一般発表 |
医療材料形成を目的としたテフロン表面の光改質 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
708 |
1991 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性(〓) |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
709 |
1991 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収発光特性 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
710 |
1991 |
一般発表 |
低温雰囲気における合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収・発光特性 |
レーザー学会学術講演会第12回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
0 |
711 |
1991 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによる結晶性SiCの国路パターンエッチング(5) |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 宏一
|
4 |
712 |
1991 |
一般発表 |
SiH4の2光子分解と真空紫外域での発光特性 |
第39回応用物理学会関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
4 |
713 |
1991 |
一般発表 |
アルカリ不純物を含む合成石英ガラスの380nm蛍光 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
萩原 博隆
|
3 |
714 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成(〓) −Al(CH3)3による導電性の改善― |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
715 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるZnS薄膜の作製(〓) |
第39回応用物理学会関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
山根 啓嗣
|
4 |
716 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるふっ化炭素膜の生成 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
北村 一典
|
1 |
717 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるPMMAの表面改質 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
718 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiO2のレジストレスパターン露光エッチング |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
3 |
719 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 ―ホウ酸アンモニウム水溶液による親水性の発現― |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
720 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―Al化合物による水酸基の発現(〓)― |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
1 |
721 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―B化合物による水酸基の発現(〓)− |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
722 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) ―親油性― |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
723 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面のSiCへの改質 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
724 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面のSnO2への改質 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
3 |
725 |
1991 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたSiO2絶縁膜の形成 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
2 |
726 |
1991 |
一般発表 |
フッ化物結晶のArFエキシマレーザー照射特性(V) |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
遊橋 一雄
|
3 |
727 |
1991 |
一般発表 |
医療用材料形成を目的としたテフロン表面改質(V) |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
728 |
1991 |
一般発表 |
極低温雰囲気における合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収と発光特性 |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
0 |
729 |
1991 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収(〓) |
第39回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
730 |
1991 |
特別講演・招待講演 |
短波長レーザ用光学材料 |
第120回 例会 |
国内 |
レーザ協会 |
1991年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
731 |
1991 |
シンポジウム発表 |
レーザープロセスを支える光学材料の開発 |
電気学会・光量子デバイス研究会 OQD−91−53 |
国内 |
電気学会 |
1991年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
0 |
732 |
1991 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂表面へのSiC成長 |
第14回 理研シンポジウム レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
御代川 孝彦
|
4 |
733 |
1991 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーを用いたフッ素樹脂表面の光化学的改質 |
第14回 理研シンポジウム レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
734 |
1991 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーを用いたフッ素樹脂表面への水酸基置換 |
第14回 理研シンポジウム レーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 レーザー科学研究グループ |
1992年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
樫浦 英秋
|
2 |
735 |
1991 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるテフロン表面改質 |
理研シンポジウム −反応制御による表面加工技術− |
国内 |
理化学研究所 |
1992年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
736 |
1991 |
その他 |
ArF excimer laser induced etching of SiO2 and Si |
平成2年度 共同研究成果報告書 |
国内 |
大阪大学 レーザー核融合研究センター |
1991年11月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
737 |
1991 |
特別講演・招待講演 |
CLEO報告 |
第120回 例会 |
国内 |
レーザ協会 |
1991年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
738 |
1990 |
一般発表 |
ArF excimer laser induced etching of thermal oxide silicon film |
CLEO’90 |
国際 |
Optical Society of America |
1990年4月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
739 |
1990 |
一般発表 |
アモルファス、多結晶、単結晶SiCの光エッチング特性 |
第5回 SiC研究会 |
国内 |
SiC研究会 |
1990年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
1 |
740 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによる合成石英ガラスのエッチングとその面のSTM観察 |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
1 |
741 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたSiのレジストレスエッチング(3) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
古賀 雅之
|
3 |
742 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジストのドライ現像(3)−レジストの耐性− |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
743 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジスト材料の開発(5) −3成分系レジストの光分解機構− |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
744 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー照射による合成石英ガラスの発光特性 |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
辻 佳子
|
2 |
745 |
1990 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解の発光特性(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
3 |
746 |
1990 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによるアモルファス、多結晶、単結晶SiC |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
747 |
1990 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによる結晶性SiCの回路パターンエッチング(2) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
748 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるCLF3ガスの光分解メカニズム(2) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
749 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるNF3ガスの光分解 |
第51応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
750 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSi膜のパターンCVD(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
2 |
751 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSn02膜のパターンCVD |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
中尾 正樹
|
2 |
752 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −親油性− |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
753 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(iv) −親水性− |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
754 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるフッ化物結晶の発光特性(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
中原 秀起
|
2 |
755 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
3 |
756 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの誘起吸収 |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
757 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる溶融石英ガラスの発光特性(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
林 瑛
|
3 |
758 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたフロン−12の光分解(2)−SiO2ガラスのエッチング− |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
4 |
759 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた熱酸化Si膜の光エッチング(3) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
760 |
1990 |
一般発表 |
テフロンレジストを用いたClF3ガス中でのSiエッチング |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
761 |
1990 |
一般発表 |
医療用材料形成を目的としたテフロン表面の光改質(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
762 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー照射時の215nm吸収帯の挙動 |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
763 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性(〓) |
第51回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
2 |
764 |
1990 |
一般発表 |
Selective surface modification of fluorocarbon resin into hydrophilic material using an excimer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Material Research Society |
1990年11月 |
共同 |
M. Murahara |
大越 昌幸
|
1 |
765 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるSiO2のドライエッチング(2) |
レーザー学会学術講演会第11会年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
3 |
766 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるSiのレジストレスエッチング(2) |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
古賀 雅之
|
4 |
767 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたフロン−12の光分解(2) −SiO2ガラスのエッチング |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
5 |
768 |
1990 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解と真空紫外域でのガスの挙動 |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
3 |
769 |
1990 |
一般発表 |
ClF3ガスでのテフロンレジストの耐性 |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 富英
|
3 |
770 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるClF3ガスの光分解メカニズム(2) |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
鈴木 幸彦
|
3 |
771 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSICレジストレスエッチング(3) |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
772 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −親水性− |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
773 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −親油性− |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
3 |
774 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる透明導電膜のパターンCVD |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
中尾 正樹
|
4 |
775 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザー照射によるNF3ガスの光分解とNFOの生成 |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
3 |
776 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザー照射によるフッ化物結晶の発光特性 |
レーザー学会学術講演第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
中原 秀起
|
3 |
777 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザー用PMMAレジストのドライ現像(2) |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
778 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性 |
レーザー学会学術講演第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
3 |
779 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー用光学材料特性 |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
3 |
780 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエッチングとその面のSTM観察 |
レーザー学会学術講演会第11回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1991年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
1 |
781 |
1990 |
一般発表 |
〓臉・弍僖・薀垢裡慇・伴容胆〓 |
〓茖械顕鷄・冓・・愆愀枯・膵岷蕾〓 |
国内 |
〓・冓・・慍〓 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
〓訐〓 伸
|
2 |
782 |
1990 |
一般発表 |
2波長エキシマレーザーによるSiO2のエッチング |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
5 |
783 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたSiのレジストレスエッチング(3) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
3 |
784 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジストのドライ現像(4) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
785 |
1990 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー光プロセス用光学材料の開発 |
第38の応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
786 |
1990 |
一般発表 |
ArFレーザ・光プロセス用投影レンズの開発 |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
武山 芸英
|
1 |
787 |
1990 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解(V1) −真空紫外域におけるSiH4の挙動− |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
3 |
788 |
1990 |
一般発表 |
ArFレーザー照射時の合成石英ガラスの蛍光と不純物濃度の関係 |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
木村 佳子
|
2 |
789 |
1990 |
一般発表 |
ArF光プロセス用ビームホモジナイザーの開発 |
第38回応物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
790 |
1990 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによる結晶性SiCのパターンエッチング(3) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
791 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーClF3ガス光分解メカニズム(3) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
792 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −Al(CH3)3による親油性の発現− |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 明
|
3 |
793 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓) −親水性− |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
794 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とa−SiCの成長 |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
795 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質とその評価(〓) −B(CH3)3による親油性の発現− |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
796 |
1990 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた熱酸化シリコン膜の光エッチング(3) |
第38応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
797 |
1990 |
一般発表 |
フッ化物結晶のArFエキシマレーザー照射特性(〓) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
798 |
1990 |
一般発表 |
医療用材料形成を目的としたテフロン表面の光改質(〓) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
799 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性(〓) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
松本 康孝
|
3 |
800 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収(〓) |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
801 |
1990 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー誘起吸収発光特性におよぼす製造条件依存性 |
第38回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1991年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
802 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
新しいレーザープロセッシング |
第17回レーザーセミナー |
国内 |
レーザー学会 |
1990年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
803 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザー加工技術 |
第5回レーザスクール |
国内 |
光産業技術振興協会 |
1990年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
804 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
フッ素樹脂の表面改質 |
エキシマレーザ材料化学プロセッシング |
国内 |
化学・バイオつくば財団 有機エレクトロニクス材料研究会 |
1990年11月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
805 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
レーザ表面化学反応 |
第80回 フォトポリマー懇話会例会 光表面改質 |
国内 |
フォトポリマー懇話会 |
1990年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
806 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
レーザー光化学による表面改質 |
1990年度印刷・情報記録研究会講座 |
国内 |
高分子学会 |
1991年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
807 |
1990 |
シンポジウム発表 |
Resistless photo-etching of crystalline silicon carbide by excimer laser |
Sino-Japanese Symposium on Lasers |
国際 |
レーザー学会 |
1990年11月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
808 |
1990 |
シンポジウム発表 |
Characteristics of ArF excimer laser induced absorption and emission bands in wet fused silica (type〓) synthesized in reducing A |
MRS-Japan |
国内 |
The Materials Research Society of Japan |
1990年12月 |
共同 |
M. Murahara |
葛生 伸
|
1 |
809 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザ加工 |
第112回(1990・2回)例会 |
国内 |
レーザ協会 |
1990年4月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
810 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザによる材料のエッチングと表面改質 |
第114回(1990・4回)例会 |
国内 |
レーザー協会 |
1990年8月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
811 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
レーザーによるCVDおよびエッチング加工 |
第34回 HPL研究委員会 |
国内 |
日本溶接協会 |
1990年8月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
812 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
国際会議 CLEO’90報告 (応用関連) |
第114回(1990.4回)例会 |
国内 |
レーザ協会 |
1990年8月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
813 |
1990 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザ加工 |
第26回レーザーエネルギー応用機器懇談会 |
国内 |
光産業技術振興協会 |
1990年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
814 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解の発光特性 |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
和気 三泰
|
2 |
815 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザーリソグラフィー用超高分子量レジスト材料開発 |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
3 |
816 |
1989 |
一般発表 |
Fabrication of silicon carbide holographic grating by excimer lasers |
CLEO '89, Baltimore |
国際 |
Optical Society of America |
1989年4月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
817 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法による単結晶Si膜の形成(〓) |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
818 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―親水性― |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
819 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―親油性― |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
820 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性(〓) |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
821 |
1989 |
一般発表 |
ホログラフィックグレーティング法によるSiCのパターンエッチング |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
822 |
1989 |
一般発表 |
二波長エキシマレーザーによるSiCの光エッチング(〓) |
第36回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
823 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用PMMAレジストの開発(3) |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
4 |
824 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジストのドライ現像 |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
戸田 匡広
|
1 |
825 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解の発光特性(〓) |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
3 |
826 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSi膜のパターンCVD |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
4 |
827 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓)―親水性― |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
林 雅彦
|
3 |
828 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質(〓)―親油性― |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
829 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性(〓) |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
830 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性におよぼす雰囲気熱処理の効果 |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
831 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたフロン−12の光分解 |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
平石 敏之
|
2 |
832 |
1989 |
一般発表 |
ホログラフィックグレーティング法によるSiCのパターンエッチング(〓) |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
833 |
1989 |
一般発表 |
合成石英製楕円面レンズの研磨法(〓) |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
宮本 明彦
|
3 |
834 |
1989 |
一般発表 |
二波長エキシマレーザーによるSiCの光エッチング(〓) |
第50回応用物理学関係連講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
3 |
835 |
1989 |
一般発表 |
複数エキシマレーザーの同期発振制御 |
第50回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1989年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
2 |
836 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザリソグラフィ用超高分子量レジスト材料の開発 |
第38回高分子討論会 |
国内 |
高分子学会 |
1989年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
1 |
837 |
1989 |
一般発表 |
Resistless pattern etching of SiC by excimer lasers |
Symposium on Microelectronic Integrated Processing, Santa Clara |
国際 |
SPIE |
1989年10月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
838 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー用PMMAレジストの開発 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
839 |
1989 |
一般発表 |
Holographic pattern etching of silicon carbide |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1989年11月 |
共同 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
2 |
840 |
1989 |
一般発表 |
Luminescence measurements of fused silica in the presence of excimer laser radiation |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1989年11月 |
共同 |
M. Murahara |
葛生 伸
|
1 |
841 |
1989 |
一般発表 |
Selective surface modification of fluorocarbon resin using excimer laser |
MRS Fall Meeting |
国際 |
Materials Research Society |
1989年11月 |
共同 |
M. Murahara |
M. Okoshi |
1 |
842 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSi膜のパターン形成 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
4 |
843 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのパターンエッチング |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
844 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるシラン系ガスの光分解と発光特性 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
2 |
845 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂の表面改質―親水性― |
’89SASハイテクシンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
林 雅彦
|
2 |
846 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるフッ素樹脂の表面改質―親油性― |
’89SASハイテクシンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
0 |
847 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるフロンガスの光分解 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
平石 敏之
|
2 |
848 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザー照射による合成シリカガラスの発光特性 |
第30回ガラス討論会 |
国内 |
日本セラミックス協会ガラス部会 |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
849 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザー照射時の合成石英ガラスの発光特性 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
850 |
1989 |
一般発表 |
レーザーホログラフィーを利用したSiCのパターンエッチング |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
851 |
1989 |
一般発表 |
レーザー生成プラズマからの短波長光の発生 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
1 |
852 |
1989 |
一般発表 |
楕円面レンズの研磨法 |
’89SASハイテクシンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
宮本 明彦
|
3 |
853 |
1989 |
一般発表 |
複数パルスレーザーの同期発振制御 |
’89SASハイテク・シンポジウム |
国内 |
SAS |
1989年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
2 |
854 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーによるSiO2のドライエッチング |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
855 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたフロン12の光分解 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
平石 敏之
|
3 |
856 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザー用超高分子量レジスト材料(2) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
857 |
1989 |
一般発表 |
ArF用PMMAレジストのドライ現像 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
858 |
1989 |
一般発表 |
SiH4の光分解と発光特性(〓) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
2 |
859 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるパターン状Si膜の形成 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
5 |
860 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのホログラフィックパターンエッチング |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
861 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング(2) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
1 |
862 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiのレジストレスエッチング |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
863 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―親水性― |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
林 雅彦
|
4 |
864 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―親油性― |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
865 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたClF3ガスの光分解 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
1 |
866 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザー用窓材の発光特性(フッ化物結晶) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
0 |
867 |
1989 |
一般発表 |
レーザープラズマの分光分析 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
2 |
868 |
1989 |
一般発表 |
光化学反応のための複数エキシマレーザーの同期発振制御 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
2 |
869 |
1989 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー照射時の発光特性(〓) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
870 |
1989 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー照射時の発光特性におよぼす雰囲気熱処理の効果 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
871 |
1989 |
一般発表 |
合成石英製楕円面レンズの設計と試作(3) |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
宮本 明彦
|
3 |
872 |
1989 |
一般発表 |
銅のレーザーエッチングの初期過程 |
レーザー学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
和気 三泰
|
2 |
873 |
1989 |
一般発表 |
溶融石英ガラスのエキシマレーザー照射時の発光特性 |
レーザ学会学術講演会第10回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
874 |
1989 |
一般発表 |
2波長エキシマレーザーの同期照射によるガスの光分解とその効果 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
|
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小原 隆
|
4 |
875 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーを用いたSiのレジストレスエッチング |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
876 |
1989 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザーリソグラフィー用レジスト材料開発(4)―レジストの光分解機構― |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
青森 繁
|
3 |
877 |
1989 |
一般発表 |
ArFレーザーによるSiH4の光分解の発光特性(〓) |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
滝沢 本承
|
4 |
878 |
1989 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーによる結晶性SiCの回路パターンエッチング |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
879 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるClF3ガスの光分解メカニズム |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
880 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCの異方性エッチング |
1990年電子情報通信学会春季全国大会 |
国内 |
電子情報通信学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
0 |
881 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSi膜のパターン形成 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
5 |
882 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 ―親水性― |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
林 雅彦
|
4 |
883 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 ―親油性― |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
884 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英ガラスの発光特性 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
885 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる溶融石英ガラスの発光特性 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
1 |
886 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いたリソグラフィープロセスのオールドライ化 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
887 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザーを用いた熱酸化Si膜の光エッチング |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
2 |
888 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザー生成プラズマの発光特性 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
3 |
889 |
1989 |
一般発表 |
エキシマレーザー用窓材(フッ化物結晶)の発光特性 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
890 |
1989 |
一般発表 |
医療用材料形成を目的としたテフロンの光改質 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
2 |
891 |
1989 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー照射時の発光特性に及ぼす雰囲気熱処理の効果 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
892 |
1989 |
一般発表 |
合成石英ガラスのエキシマレーザー透過特性 |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
1 |
893 |
1989 |
一般発表 |
二波長エキシマレーザーによるSiCの光エッチング(〓) |
第37回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1990年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
894 |
1989 |
特別講演・招待講演 |
レーザープロセシングによる新材料技術へのアプローチ |
学生のためのレーザー応用セミナー |
国内 |
レーザー学会 東京支部 |
1989年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
895 |
1989 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザ応用の現状と将来 |
エキシマレーザワーキンググループ.エキシマレーザ加工処理技術ワーキンググループ |
国内 |
通産省第24次大型プロジェクト(超先端加工システム技術研究組合) |
1989年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
896 |
1989 |
シンポジウム発表 |
ArFエキシマレーザーによるパターンCVD |
第12回理研シンポジウムレーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
5 |
897 |
1989 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質―親水性― |
第12回理研シンポジウムレーザー科学 |
国内 |
理化学研究所 |
1990年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
田中 健治
|
3 |
898 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiC薄膜の光エッチング |
昭和62年度共同研究成果報告会 |
国内 |
大阪大学レーザー核融合研究センター |
1988年5月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
899 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法によるSi膜の形成(〓) |
第49回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
900 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる合成石英の発光特性 |
第49回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
5 |
901 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーリソグラフィー用耐光エッチング性PMMAレジストの開発 |
第49回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
3 |
902 |
1988 |
一般発表 |
合成石英楕円面レンズの研磨法 |
第49回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
6 |
903 |
1988 |
一般発表 |
二波長エキシマレーザーによるSiCの光エッチング |
第49回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
5 |
904 |
1988 |
一般発表 |
ArFエキシマレーザー用超高分子量PMMAレジスト材料 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
1 |
905 |
1988 |
一般発表 |
KrF用PMMAレジストの耐光エッチング性 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡部 勇
|
3 |
906 |
1988 |
一般発表 |
SiH4の光分解と発光特性(ArFレーザー高密度励起) |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
和気 三泰
|
2 |
907 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSi膜成と基板加熱効果 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
908 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiCのレジストレスエッチング |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
4 |
909 |
1988 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザ学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
3 |
910 |
1988 |
一般発表 |
合成石英のArFエキシマレーザーによる発光特性 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
911 |
1988 |
一般発表 |
合成石英のKrFエキシマレーザーによる発光特性 |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
葛生 伸
|
2 |
912 |
1988 |
一般発表 |
合成石英製楕円面レンズの設計と試作(〓) |
レーザー学会学術講演会第9回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1989年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
藤本 耕三
|
5 |
913 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2透明導電性膜の形成 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
大越 昌幸
|
1 |
914 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによる単結晶Si膜の形成 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
0 |
915 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
菅原 徳仁
|
1 |
916 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによるプリント基板用レジストの露光効果 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
小松 由和
|
2 |
917 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによる回折格子の試作 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
米川 勝
|
3 |
918 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザービームの均質化 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
3 |
919 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーリソグラフィーとSiのエッチング |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
浦野 勇一
|
1 |
920 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーリソグラフィー用縮小投影光学系の試作 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
藤本 耕三
|
2 |
921 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザー用楕円面レンズの試作 |
第13回光学シンポジウム |
国内 |
応用物理学会・光学懇話会 |
1988年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
922 |
1988 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザー用超高分子量PMMAレジストの開発 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
岡部 勇
|
1 |
923 |
1988 |
シンポジウム発表 |
シリコンオイルの光酸化とSiO2膜の形成 |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
和気 三泰
|
2 |
924 |
1988 |
シンポジウム発表 |
シリコンカーバイトの光エッチング |
’88 新素材とハイテクシンポジウム |
国内 |
日本プレーティング協会 |
1988年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
白川 光一
|
2 |
925 |
1988 |
シンポジウム発表 |
Excimer laser induced selective deposition and etching of semiconductor films |
超電導および新素材の基礎科学に関する東海大学国際シンポジウム |
国内 |
東海大学 |
1988年11月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
926 |
1988 |
シンポジウム発表 |
Applications of excimer lasers to semiconductor processing |
第15回・日ソ・エレクトロニクスシンポジウム |
国際 |
東海大学・ソビィエト科学アカデミィー |
1988年12月 |
単独 |
M. Murahara |
Masataka Murahara |
0 |
927 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法による結晶性Si膜の形成 |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
928 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるClF3の光分解とエッチング効果 |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅原 重紀
|
4 |
929 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザービームの均質化とスペクトル幅の制御 |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
2 |
930 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーリソグラフィー(2) |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
南屋 浩士
|
3 |
931 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザー用超高分子量PMMA材料の開発とその光低分子化 |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
1 |
932 |
1987 |
一般発表 |
リソグラフィー用非球面レンズの設計と試作 |
第48回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年10月 |
共同 |
村原 正隆
|
羽鳥 誠
|
1 |
933 |
1987 |
一般発表 |
KrFエキシマレーザーリソグラフィー |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
南屋 浩士
|
3 |
934 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法による結晶性Si膜の形成と評価 |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
935 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiの光エッチング |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅原 重紀
|
3 |
936 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザー用スペーシャルフィルター内蔵型共振器の試作 |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
吉田 宇秀
|
3 |
937 |
1987 |
一般発表 |
合成石英製楕円面レンズの設計と試作 |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
羽鳥 誠
|
1 |
938 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVD法による単結晶Si膜の形成 |
第35応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
3 |
939 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザーリソグラフィー(3) |
第35回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
南屋 浩士
|
3 |
940 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザー用PMMAレジスト材料の開発 |
レーザー学会学術講演会第8回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1988年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
1 |
941 |
1987 |
一般発表 |
エキシマレーザー用PMMA材料開発とその光低分子化(〓) |
第35回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
2 |
942 |
1987 |
一般発表 |
二波長エキシマレーザーによるSiCの光エッチング |
第35回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1988年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
浅原 重紀
|
3 |
943 |
1987 |
特別講演・招待講演 |
高分子表面のレーザー加工 |
高分子表面研究会 |
国内 |
高分子学会 |
1988年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
944 |
1987 |
シンポジウム発表 |
高感度高解像度PMMAレジストの開発 |
第12回光学シンポジウム |
国内 |
応用物理学会・光学懇話会 |
1987年6月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
1 |
945 |
1987 |
シンポジウム発表 |
Photochemical depositions of silicon films by excimer laser |
14回 日・ソ エレクトロニクス シンポジウム |
国内 |
東海大学・ソ連科学アカデミー |
1987年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
946 |
1987 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによる結晶性Si膜の形成と評価 |
第10回理研シンポジウム |
国内 |
理化学研究所 |
1988年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
重枝 勉
|
4 |
947 |
1987 |
その他 |
薄膜形成技術 |
レーザ別応用分解とその応用 |
国内 |
精密工学会・フォトプロセッシング技術動向調査分科会 |
1987年10月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
948 |
1987 |
その他 |
レーザーと生活 |
放送現代文明論 |
国内 |
FM・東京 |
1987年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
949 |
1986 |
一般発表 |
ArFレーザーの平行入射2光子励起によるSi膜形成(〓) |
第33回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1986年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
田口 俊弘
|
3 |
950 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるSiH4の2光子吸収発光と膜形成効果 |
第33回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1986年4月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
2 |
951 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDにおける基板照射効果 |
第47回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1986年9月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
1 |
952 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDにおける基板照射効果 |
レーザー学会第7回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1987年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
3 |
953 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成 |
レーザー学会第7回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1987年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
神村 哲也
|
4 |
954 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるシングルショットリソグラフィー |
レーザー学会第7回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1987年1月 |
共同 |
村原 正隆
|
山下 信哉
|
3 |
955 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSi膜形成と基板照射効果 |
第34回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
2 |
956 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜形成と膜質評価 |
第34回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
神村 哲也
|
4 |
957 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーによるシングルショットリソグラフィー |
第34回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
山下 信哉
|
3 |
958 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザーによる光速の測定 |
第34回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
国広 徳
|
5 |
959 |
1986 |
一般発表 |
エキシマレーザー用高分子量PMMAレジスト材料開発 |
第34回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1987年3月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 徹
|
1 |
960 |
1986 |
特別講演・招待講演 |
光・レーザーCVDの特徴とその応用 |
第5回 ニュー・マテリアル セミナー 「新材料の動向とプロセスの発展」 |
国内 |
社団法人 電気化学協会 |
1986年6月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
961 |
1986 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザー光とリソグラフィー |
第21回微小光学夏季特別研究会「リソグラフィーと光学系」 |
国内 |
応用物理学会光学懇話会微小光学研究グループ |
1986年7月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
962 |
1986 |
特別講演・招待講演 |
有機化合物加工への夢 |
第16回研究会 |
国内 |
有機エレクトロニクス材料研究会 |
1987年1月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
963 |
1986 |
シンポジウム発表 |
SiH4の2光子分解と基板加熱効果 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第9回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1986年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
真田 稔
|
3 |
964 |
1986 |
シンポジウム発表 |
Si膜形成におけるLCVDの基板照射効果 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第9回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1986年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
2 |
965 |
1986 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによるGaN膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第9回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1986年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
岸本 康治
|
5 |
966 |
1986 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによるSnO2膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第9回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1986年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
神村 哲也
|
3 |
967 |
1986 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザによるプラスチックの表面改質 |
理研シンポジウム「レーザ科学(第9回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1986年11月 |
共同 |
村原 正隆
|
佐藤 鉄弥
|
3 |
968 |
1986 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザー応用技術の展望 |
第3回レーザエネルギー応用機器懇談会 |
国内 |
財団法人・光産業技術振興協会 |
1986年12月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
969 |
1985 |
一般発表 |
XeClエキシマーレーザーによるSiH4の2光子分解と膜形成 |
第32回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1985年4月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
4 |
970 |
1985 |
一般発表 |
ArFレーザーの平行入射2光子励起によるSi膜形成(〓) |
第46回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理 |
1985年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
971 |
1985 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるGaPおよびGaAsの膜形成と膜質評価 |
第46回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1985年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
972 |
1985 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるプリント基板用フォトポリマーの露光効果 |
第46回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理 |
1985年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
973 |
1985 |
一般発表 |
Si膜形成を目的としたSiH4の2光子分解と発光特性 |
レーザー学会学術講演会第6回年次大会 |
国内 |
レーザー学会 |
1986年2月 |
共同 |
村原 正隆
|
高橋 望
|
1 |
974 |
1985 |
特別講演・招待講演 |
エキシマレーザによる加工 |
ウインターセミナー |
国内 |
レーザ協会 |
1986年2月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
975 |
1985 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーによるシラン系ガスの2光子分解と膜形成 |
プラズマ化学シンポジウム |
国内 |
プラズマ化学世話人会 |
1985年9月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
976 |
1985 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザCVDによるSi薄膜の形成 |
プラズマ化学シンポジウム |
国内 |
日本工業新聞社 |
1985年11月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
977 |
1985 |
シンポジウム発表 |
ArFエキシマレーザーによるSiH4の2光子分解と膜形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第8回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
4 |
978 |
1985 |
シンポジウム発表 |
Xe ClレーザーによるSi2H6の光分解と基板加熱効果 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第8回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
向後 雅則
|
4 |
979 |
1985 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーCVDによる金属膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第8回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
末次 金一郎
|
5 |
980 |
1985 |
シンポジウム発表 |
エキシマレーザーによる感光性ドライフィルムの露光効果 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第8回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
米田 勉
|
4 |
981 |
1985 |
その他 |
エキシマレーザーCVD技術とその応用 |
最新CVD技術とその応用開発 |
国内 |
テクノアイ |
1985年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
982 |
1985 |
その他 |
エキシマレーザ応用の現状と今後 |
レーザー加工応用講座 |
国内 |
三菱電機株式会社 |
1985年5月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
983 |
1985 |
その他 |
エキシマーレーザーの各種応用技術 |
エキシマーレーザーの特性と各種応用開発技術 |
国内 |
ソフト技研 |
1985年6月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
984 |
1985 |
その他 |
エキシマーレーザーによる光化学とCVD |
プラズマ化学セミナー |
国内 |
日本工業新聞社 |
1985年7月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
985 |
1985 |
その他 |
エキシマレーザーの各種応用技術 |
エキシマレーザーの開発動向・各種応用技術 |
国内 |
経営開発センター |
1985年7月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
986 |
1985 |
その他 |
エキシマレーザの応用 |
第84回例会 |
国内 |
レーザ協会 |
1985年7月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
987 |
1985 |
その他 |
エキシマーレーザーの各種応用技術 |
エキシマレーザーの開発と特性及び各種応用技術の実際 |
国内 |
工学情報センター |
1985年10月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
988 |
1985 |
その他 |
エキシマレーザーCVD法による薄膜形成技術 |
低損傷・低温膜・平担化CVD技術による薄膜形成技術 |
国内 |
テクノアイ |
1985年10月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
989 |
1985 |
その他 |
ArFエキシマレーザーを用いたSiH4の2光子励起による膜形成 |
レーザー学会第115回研究会 |
国内 |
レーザー学会 |
1985年12月 |
共同 |
村原 正隆
|
田口 俊弘
|
3 |
990 |
1985 |
特別講演・招待講演 |
新素材開発の担いてエキシマレーザー |
東海大学産業科学研究所第9回研究談話会 |
|
東海大学産業科学研究所 |
1986年3月 |
単独 |
村原 正隆
|
村原 正隆
|
0 |
991 |
1984 |
一般発表 |
Linear-focused ArF excimer laser beam for depositing silicon films |
International Conference on Laser Processing and Diagonistic Application in Electronic Materials |
国際 |
Johannes Kpler University, Linz, Austria |
1984年7月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
992 |
1984 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるGaAs薄膜の形成 |
第45回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
993 |
1984 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるSiH4の2光子分解と膜形成 |
第45回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
994 |
1984 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるSiH4の光分解とSinH2n+2生成が膜形成に及ぼす影響 |
第45回応用物理学会学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
995 |
1984 |
一般発表 |
Si膜形成を目的とした光化学反応可視化装置の試作 |
第5回レーザー学会学術講演会 |
国内 |
レーザー学会 |
1985年1月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
996 |
1984 |
一般発表 |
エキシマレーザーCVDによるGaAs |
第5回レーザー学会学術講演会 |
国内 |
レーザー学会 |
1985年1月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
997 |
1984 |
一般発表 |
エキシマレーザCVDによるSi膜の形成 |
第5回レーザー学会学術講演会 |
国内 |
レーザー学会 |
1985年1月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
998 |
1984 |
一般発表 |
ArFレーザーの平行入射2光子励起によるSi膜形成 |
第32回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1985年3月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
999 |
1984 |
一般発表 |
エキシマーレーザーCVDによるGaP薄膜の形成 |
第32回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1985年3月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
1000 |
1984 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーCVDと2光子吸収 |
VLSIと光プロセス・ワークショップ |
国内 |
応用物理学会 |
1985年1月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1001 |
1984 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーを用いたGaAs薄膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第7回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年2月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
3 |
1002 |
1984 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーを用いたSi薄膜の形成 |
理研シンポジウム「レーザー科学(第7回)」 |
国内 |
理化学研究所 |
1985年2月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
5 |
1003 |
1984 |
その他 |
レーザーCVD技術の開発とその応用 |
新しいCVD技術 |
国内 |
経営開発センター |
1984年5月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1004 |
1984 |
その他 |
Photochemical deposition of silicon by excimer lasers |
第3回理研一慶應シンポジウム |
国内 |
理化学研究所慶應義塾大学 |
1984年6月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
1005 |
1984 |
その他 |
レーザーによるCVD |
半導体プロセスにおける光CVD,光エッチングの最新技術 |
国内 |
サイエンスフォーラム |
1984年6月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1006 |
1984 |
その他 |
エキシマーレーザーの光化学への応用 |
繊高研講演会 |
国内 |
工業技術院繊維高分子研究所 |
1984年9月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1007 |
1984 |
その他 |
エキシマーレーザーの特質とその効果的利用について |
繊高研講演会 |
国内 |
工業技術院繊維高分子研究所 |
1984年9月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1008 |
1984 |
その他 |
エキシマーレーザーの各種応用技術 |
エキシマーレーザーの開発と特性,各種応用技術 |
国内 |
神奈川経営開発センター |
1984年10月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1009 |
1984 |
その他 |
エキシマレーザーの応用 |
最近におけるエキシマレーザーの開発とその応用技術・例 |
国内 |
技研情報センター |
1984年12月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1010 |
1984 |
その他 |
Excimer Laserとその応用 |
フオトンプロセシング技術動向の調査分科会 |
国内 |
精密機械学会 |
1985年1月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1011 |
1984 |
その他 |
エキシマレーザーの各種応用技術 |
エキシマレーザーの開発・特性と各種応用技術 |
国内 |
経営開発センター |
1985年1月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1012 |
1984 |
その他 |
エキシマレーザの特性と各種応用技術 |
高出力・高性能エキシマレーザの各種応用技術 |
国内 |
経営開発センター |
1985年1月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1013 |
1984 |
その他 |
エキシマレーザの精密加工分野への応用 |
最も新しいレーザ加工技術 |
国内 |
ニュー・テクノロジーアンドサイエンス |
1985年2月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1014 |
1984 |
その他 |
エキシマレーザCVDによる薄膜形成技術 |
低温・高品質(新方式)薄膜形成技術とその応用 |
国内 |
経営開発センター |
1985年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1015 |
1984 |
その他 |
レーザー光による化学プロセスについて |
高分子同友会講演会 |
国内 |
高分子学会 |
1985年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1016 |
1983 |
一般発表 |
ArFエキシマーレーザーによるボロンのドーピング |
第30回応用物理関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1983年4月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1017 |
1983 |
一般発表 |
N_レーザーによる樹脂凸版の直接製版 |
第30回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1983年4月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1018 |
1983 |
一般発表 |
Xeclエキシマーレーザーを用いた新聞凸版の製版 |
第30回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1983年4月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1019 |
1983 |
一般発表 |
短パルス照射紫外レーザー顕微鏡の製作 |
第30回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1983年4月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1020 |
1983 |
一般発表 |
エキシマ−レ−ザ−による光化学の反応生成物について |
1st Workshop on VLSI process Technology |
国内 |
応用物理 分科会 |
1983年7月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1021 |
1983 |
一般発表 |
ArFエキシマーレーザーによるSi薄膜の形成 |
第44回応用物理学学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1983年9月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1022 |
1983 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるSi2H6の分解とSi膜の窓への付着 |
第31回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年3月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1023 |
1983 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによる大気中でのSiO2膜形成と直接描画 |
第31回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年3月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1024 |
1983 |
一般発表 |
シラン系ガスの1光子および2光子吸収による光分解 |
第31回応用物理学関係連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1984年3月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1025 |
1983 |
その他 |
エキシマ−レ−ザ−による加工 |
レ−ザ−応用加工技術の現状を探る |
国内 |
工業調査会 |
1983年5月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1026 |
1983 |
その他 |
レ−ザ−の印刷への応用 |
印刷材料研究会 |
国内 |
高分子学会 |
1983年5月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1027 |
1983 |
その他 |
エキシマ−レ−ザ−を用いた記録方法 |
レ−ザ記録技術の実際 |
国内 |
神奈川経営開発センタ− |
1983年7月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1028 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーによるポリマーのエッチングと光硬化 |
フォトポリマー懇話会第44回講演会 |
国内 |
フォトポリマー懇話会 |
1983年8月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
1029 |
1983 |
その他 |
エキシマ−レ−ザ−による薄膜形成とその問題点 |
光エネルギ−利用による新しい薄膜形成技術特別講座 |
国内 |
技研情報センタ− |
1983年9月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1030 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーの光化学反応への応用 |
昭和58年電気四学会連合大会 |
国内 |
電気学会、電子通信学会、照明学会、テレビジョン学会 |
1983年10月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
1031 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーの光化学への応用(その1) |
化学技術研究所講演会 |
国内 |
工業技術院化学技術研究所 |
1983年12月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1032 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーを用いた光プロセス |
理化学研究所レーザー科学第6回シンポジウム |
国内 |
理化学研究所 |
1983年12月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1033 |
1983 |
その他 |
期待されるエキシマーレーザー |
ミタ・テクノピア |
国内 |
テレビ東京 |
1983年12月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
2 |
1034 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーによる加工 |
FA化のためのレーザー加工技術 |
国内 |
レーザー協会 |
1984年2月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1035 |
1983 |
その他 |
露光光源としてのエキシマーレーザーの現状と将来 |
高分子レジスト材料の基礎と実用技術 |
国内 |
産業技術研究会 |
1984年2月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1036 |
1983 |
その他 |
エキシマーレーザーの光化学(2)シラン系ガスの光分解とSi薄膜の形成 |
化学技術研究所講演会 |
国内 |
工業技術院化学技術研究所 |
1984年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1037 |
1982 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるホログラフィック・グレーティング〔2〕 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1982年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1038 |
1982 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによる直接製版 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1982年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1039 |
1982 |
一般発表 |
エキシマーレーザー用Unstable Resonatorの製作 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1982年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1040 |
1982 |
一般発表 |
真空紫外レーザーによるメタンの酸化反応 |
応用物理学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1982年9月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1041 |
1982 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーによる直接製版 |
第7回光学シンポジウム |
国内 |
応用物理学会 |
1982年6月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1042 |
1982 |
シンポジウム発表 |
エキシマーレーザーによる光化学反応と加工への応用 |
理化学研究所レーザー科学第5回シンポジウム |
国内 |
理化学研究所 |
1982年12月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1043 |
1982 |
その他 |
Studies on electron beam pumped excimer laser and its application at Riken |
第1回理研 慶応シンポジウム |
国内 |
理化学研究所 慶應義塾大学 |
1982年5月 |
共同 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
1 |
1044 |
1982 |
その他 |
エキシマーレーザーによる光化学反応と加工への応用 |
電気学会第18回レーザー装置調査専門委員会 |
国内 |
電気学会 |
1982年9月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1045 |
1981 |
一般発表 |
エキシマーレーザーによるホログラフィック・グレーティングの作製 |
応用物理学術講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1981年10月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1046 |
1981 |
一般発表 |
エキシマーレーザー励起によるメタンと酸素混合気体の光化学反応 |
レーザー学会講演会 |
国内 |
レーザー学会 |
1982年1月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1047 |
1980 |
一般発表 |
シリコン導電ゴムによる地下タンク用油漏れセンサーの開発 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1980年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1048 |
1980 |
一般発表 |
レーザーによる繰り返し荷重下での岩石疲労と破壊直前の微視的変化測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1980年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1049 |
1978 |
一般発表 |
CO2レーザーによる花崗岩の熱破壊 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1978年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1050 |
1977 |
一般発表 |
3次元抗道モデル内部の応力分布測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1977年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1051 |
1977 |
一般発表 |
レーザー光弾性による固体モデル内部の熱応力分布測定法と装置の試作 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1977年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1052 |
1977 |
一般発表 |
一軸圧縮下における円柱モデル内部の応力測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1977年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1053 |
1977 |
一般発表 |
熱半導体を応用した岩石の熱拡散率測定法 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1977年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1054 |
1977 |
一般発表 |
有限要素法のレーザースペックルによる実験的検定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1977年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1055 |
1976 |
一般発表 |
コンピューターによる3次元データーの立体表現法 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1976年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1056 |
1976 |
一般発表 |
ホログラフィーによる岩石のヤング率測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1976年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1057 |
1976 |
一般発表 |
有限要素法の実験的検定と問題点 |
応用力学連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1976年11月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1058 |
1976 |
一般発表 |
一枚の鏡を使った簡易立体カラーテレビ |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1977年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1059 |
1976 |
一般発表 |
回転多面体プリズムミラーの製作 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1977年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1060 |
1976 |
一般発表 |
熱半導体周期加熱による熱拡散率測定装置の試作 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1977年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1061 |
1975 |
一般発表 |
材料試験におけるポアソン比の連続測定について |
自動制御連合講演会 |
国内 |
自動制御学会 |
1975年11月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1062 |
1975 |
一般発表 |
NCフライス盤による2軸放物面鏡の製作 |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1976年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1063 |
1975 |
一般発表 |
電子計算機による3次元データの立体像ディスプレイ |
応用物理連合講演会 |
国内 |
応用物理学会 |
1976年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1064 |
1974 |
一般発表 |
レーザ・フラッシュ法による1100℃までの岩石熱定数の測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1975年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1065 |
1974 |
一般発表 |
岩石の熱応力測定装置の試作と測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1975年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1066 |
1974 |
その他 |
ポアソン比測定用アナログコンピュタの試作と測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1975年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1067 |
1973 |
一般発表 |
ホログラフィーによる岩石ひずみ測定について |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1973年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1068 |
1973 |
一般発表 |
レーザーホログラフィーによる岩石の熱ひずみ測定 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1974年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1069 |
1973 |
一般発表 |
炭酸ガスレーザーを利用した高温での岩石熱定数測定装置の試作 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1974年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1070 |
1970 |
一般発表 |
熱破壊を目的とした岩石の赤外線吸収について |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1970年4月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |
1071 |
1970 |
一般発表 |
炭酸ガスレーザーによる岩石熱破壊の基礎研究 |
日本鉱業会 |
国内 |
日本鉱業会 |
1971年3月 |
単独 |
村原 正隆 |
村原 正隆
|
0 |