番号 特許    出願年 特許        登録年 発明・発案名称(登録・出願番号) 特許出願・   登録年月 単独
共同
発明・代表者 発明
考案者名
出願人  備考
1 1976 平面鏡の虚像を利用した3次元像ディスプレー法            (特願S51-29900) 1976/3/22 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
2 1976 平面鏡の虚像を利用した3次元レーダー装置              (特願S51-31957) 1976/3/25 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
3 1976 非球面鏡の製作方法                            (特願S51-79055) 1976/3/25 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
4 1976 平行ビーム光学装置                             (特願S51-79056) 1976/7/5 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
5 1976 立体写真装置                                (特願S51-79057) 1976/7/5 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
6 1976 回転多面体プリズムミラー                          (特願S51-127156) 1976/10/25 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
7 1976 マイクロリーダ装置(電子辞書)                       (特願S51-128072) 1976/10/25 共同 村原正隆 村原正隆、橋本信哉、藤ヶ崎とつ美 村原正隆 早稲田大学在学時代
8 1977 熱半導体を使った熱定数測定装置                    (特願S52-33516) 1977/3/25 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
9 1977 降雨センサー装置                               (特願S52-97400) 1977/8/12 共同 村原正隆 村原正隆、藤ヶ崎とつ美 村原正隆 早稲田大学在学時代
10 1977 レーザ光たこ糸溶断装置                          (特願S52-98695) 1977/8/19 共同 村原正隆 村原正隆、藤ヶ崎とつ美、長谷川茂 村原正隆 早稲田大学在学時代
11 1978 ガスレーザ装置                                 (特願S53-24971) 1978/3/7 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
12 1978 レーザーミラー冷却装置                           (特願S53-24972) 1978/3/7 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
13 1977 油漏れ警報装置                               (特願S54-4733) 1977/1/22 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
14 1979 レーザ光遠距離集光装置                         (特願S54-13274) 1979/2/9 共同 村原正隆 村原正隆、長谷川茂 村原正隆 早稲田大学在学時代
15 1979 油漏れセンサー                                (特願S54-13275) 1979/2/9 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
16 1979 LED表示単体露出計 (特願S54-132541) 1979/10/15 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆 早稲田大学在学時代
17 1981 1987 ホログラフィック・グレーティング形成方法及び装置             (特許第1388384号) 1987年5月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一、 難波進 理研
18 1982 1993 パルスレーザー光による直接製版法及びその装置                 (特許第1741311号) 1993年3月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一、  難波進 理研
19 1983 1992 標本の状態検出法とそのためのレーザー顕微鏡                    (特許第1720704号) 1992年12月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一、  難波進 理研
20 1983 1993 パルスレーザーによる樹脂凸版の製版装置             (特許第1972612号) 1993年6月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一、  難波進 理研
21 1983 1994 反応過程観察装置                             (特許第1857563号) 1994年7月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一 理研
22 1983 1995 レーザーCVD装置                              (特許第1901550号) 1995年1月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一 理研
23 1986 レジスト材料                                                  (特願S61-311608) 1986年12月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
24 1987 紫外線吸収高分子材料                          (特願S62-211957) 1987年8月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
25 1987 紫外レーザー光によるエッチング方法                   (特願S62-239457) 1987年9月 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆、 セントラル硝子梶A 岩谷産業
26 1987 1993 短波長光吸収性高分子材料                            (特許1911493) 1993年 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
27 1987 1997 レジスト材料の現像方法                           (特許2598923) 1997年1月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
28 1987 紫外線吸収高分子材料                             (特願S62-251635) 1987年10月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
29 1987 1997 非球面レンズの製造方法及び装置                                         (特許第2634414号) 1997年4月 共同 村原正隆 村原正隆、岡本義章 東海大
30 1988 1993 パターンが形成された基板の製法                      (特許1976046) 1993年 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
31 1988 レジスト膜の現像方法および該現像方法に用いる現像剤                                       (特願S63-112126) 1988年5月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹、江口 テルモ
32 1988 光エッチング用レジスト材料およびそれを用いた光エッチング法  (特願S63-249609) 1988年10月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
33 1989 紫外レーザー光によるエッチング方法                            (特願H01-015925) 1989年1月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大、 セントラル硝子梶A 岩谷産業
34 1989 短波長吸収性高分子材料                                          (特願H01-007067) 1989年1月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹、金子正夫 理研、テルモ
35 1989 光レジスト材料                                      (特願H01-083089) 1989年3月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
36 1989 紫外レーザー光による基板のパターン形成方法                                         (特願H01-248623) 1989年9月 単独 村原正隆 村原正隆 テルモ、 東海大
37 1989 1994 レーザーによるフッ素樹脂の表面改質法                                (特許第1858351号) 1994年7月 共同 村原正隆 村原正隆、豊田浩一 東海大、 理研
38 1989 1995 フロンガスの分解方法及びフッ素樹脂膜の形成方法 (特許第1957316号) 1995年8月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大
39 1990 2002 合成石英ガラス及びその製法                                     (特許第3303918号) 2002年5月 共同 村原正隆 村原正隆、葛生伸、 小松由和 日本石英硝子梶A 山口日本石英
40 1990 2002 合成石英ガラス及びその製法                         (特許第330319号) 2002年5月 共同 村原正隆 村原正隆、葛生伸、 小松由和 日本石英硝子梶A 山口日本石英
41 1990 1992 Ultraviolet-absorbing Polymer Material and Photoetching Process                          (米国特許:USP- 5157091) 1992年10月 共同 村原正隆 村原正隆、下村毅、 高橋徹 テルモ
42 1990 2000 基板の酸化物のエッチング方法及び基板のクリーニング方法 (特許第3053410号) 2000年4月 共同 村原正隆 村原正隆、米川勝、 白川光一
東海大
43 1991 1997 多面凸面プリズム                                     (特許2617040) 1997年3月 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆、シグマ光機、岡本光学 (東海大学権利譲渡)
44 1991 2000 基板の表面加工方法                              (日本国特許第3125004号) 2000年11月 共同 村原正隆 村原正隆、小原隆
東海大
45 1991 透明導電膜及びその製造方法 (特願H03-259175) 1991年10月 共同 村原正隆 村原正隆、松本明、 大越昌幸 東海大
46 1991 2002 酸化膜の形成方法                                         (特許第3300781号) 2002年4月 共同 村原正隆 村原正隆、青森 繁 東海大
47 1991 2002 コンタクトレンズの表面改質法                                (特許第3329341号) 2002年7月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大
48 1992 2001 アクリル樹脂の表面改質方法                           (特許第3175789号) 2001年4月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大、 テルモ
49 1993 2004 樹脂製チューブの接着方法                                         (特許第3585253号) 2004年8月 共同 村原正隆 村原正隆、葛西宏明、 土野雅道、井浦重美 東海大、 オリンパス工業
50 1993 表面改質方法                                (特願H05-328962) 1993年12月 共同 村原正隆 村原正隆、土野雅道、 葛西宏明、井浦重美 東海大、 オリンパス工業
51 1993 2003 樹脂製チューブの表面改質方法                                     (特許第3390763号) 2003年1月 共同 村原正隆 村原正隆、葛西宏明、 土野雅道、井浦重美 東海大、 オリンパス工業
52 1993 2002 親水性フッ素樹脂多孔質膜の製造方法                            (特許第3340501号) 2002年8月 共同 村原正隆 村原正隆、大越 昌幸、 樫浦 秀秋、浦入 正勝、
野田 謙、松本 憲
東海大、 日東電工
53 1993 2002 固体材料表面改質方法および固体材料表面改質装置 (特許第3316069) 2002年6月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大、 ウシオ電機
54 1993 2003 C-H結合を有するプラスチック材料の表面改質方法  (特許第3467508号) 2003年9月 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 (東海大学権利譲渡)
55 1993 2004 フッ素樹脂材料の接着方法                                          (特許第3522313号) 2004年2月 共同 村原正隆 村原正隆、大越 昌幸 村原正隆 村原個人で審判請求 (東海大学権利譲渡)
56 1993 2004 固体表面の改質方法および装置                                         (特許第3527969号) 2004年3月 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 (東海大学権利譲渡)
57 1993 2002 固体材料表面改質方法及び固体材料表面改質装置 (特許第3316069) 2002年6月 単独 村原正隆 村原正隆 東海大、 ウシオ電機
58 1994 フッ素樹脂多孔膜と樹脂製形体との接着物                                            (特願H06-128921) 1994年6月 共同 村原正隆 村原正隆、渡辺朗 東海大、 三菱化成
59 1994 2000 Solid Surface Modification Method and Apparatus                                     (米国特許:USP- 6117497) 2000年9月 単独 村原正隆 村原正隆、浦入正勝 東海大、 日東電工
60 1994 2003 酸化膜の形成方法                               (特許第3432013号) 2003年5月 共同 村原正隆 村原正隆、津田裕
東海大、 ウシオ電機
61 1994 2003 Solid Surface Modification Method and Apparatus          (欧州特許:EUP-0644227) 2003年6月 共同 村原正隆 村原正隆、浦入正勝 東海大、 日東電工
62 1996 親水性フッ素樹脂多孔質フイルムの製造方法                                  (特願H08-194472) 1996年7月 共同 村原正隆 村原正隆、大越昌幸、 樫浦秀秋、野田謙、    松本憲 東海大、 日東電工
63 1998 2008 銅層を有するポリイミド基板の製造方法                             (特願H10-287742) 特許第4097803号(2008.3.21) 1998年10月 共同 村原正隆 村原正隆、富田雅明、 村原正秀 村原正隆 (東海大学権利譲渡)
64 1999 2009 エッチング方法                               (特願H11-241827) 特許第4250820号(2009.1.30) 1999年8月 共同 村原正隆 村原正隆、森崇、 長谷川浩一 村原正隆 (東海大学権利譲渡)
65 1999 2008 エッチング方法                                 (特願H11-241808) 特許第4174610号(2008.8.29) 1999年8月 共同 村原正隆 村原正隆、森崇、 飯塚仁志、広部浩一 村原正隆 (東海大学権利譲渡)
66 2000 2004 Solid Surface Modification Method and Apparatus         (米国特許:USP-6689426) 2004年2月 共同 村原正隆 村原正隆、浦入正勝 東海大、 日東電工
67 2001 2009 光学部品の研磨方法                                         (特願2001-14687) 特許第4399550号(2009.11.6) 2001年1月 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 (東海大学権利譲渡)
68 2002 固体材料表面の光化学的改質方法                                                          (特願2002-350311) 2002年2月 共同 村原正隆 村原正隆、徳永裕人、 望月樹也 東海大 (東海大学権利譲渡)特許第4787976号 (H23.7.29)
69 2002 2009 シリコンウエハの研磨方法                                      (特願2002-119578)  特許第4355799号(2009.8.14) 2002年4月 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 (東海大学権利譲渡)
70 2003 2009 たんぱく質細胞非付着性眼内レンズの製作方法                                        (特願2003-070216) 特許第4322028号(2009.6.12) 2003年3月 共同 村原正隆 村原正隆、谷澤克也、 佐藤雄二 村原正隆 (東海大学権利譲渡)
71 2003 光学材料の接着方法                                        (特願2003-298158) 2003年8月 共同 村原正隆 村原正隆、村原正秀、 岡本義章、 浅野健司 村原正隆、 岡本光学
72 2003 光学材料のガラスコーティング方法                                               (特願2003-298124) 2003年8月 共同 村原正隆 村原正隆、村原正秀、 岡本義章 村原正隆、 岡本光学
73 2004 シリコーンゴムの紫外線硬化を利用したコーティング     (特願2004-065053) 2004年6月 共同 村原正隆 村原正秀、村原正隆、 岡本義昭 岡本光学、    村原正隆
74 2004 固体材料の点接触研磨方法および装置                                                (特願2004-065036) 2004年6月 共同 村原正隆 村原正秀、村原正隆、 岡本義昭 岡本光学、    村原正隆
75 2004 3次元バイオセルチップの製造方法                                    (特願2004-065021) 2004年7月 共同 村原正隆 村原正隆、Elizabeth Potter, William Lee 村原正隆
76 2004 ガラス材料の接着方法および装置                                   (特願2004-264861) 2004年9月 共同 村原正隆 村原正秀、村原正隆、 船津貴行、岡本義昭 岡本光学、    村原正隆
77 2005 固体材料の表面改質方法および装置                                            (特願2005-006331) 2005年1月 共同 村原正隆 村原正隆、穴井洋行 村原正隆
78 2005 高圧化学反応方法および装置                                         (特願2005-035352) 2005年2月 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
79 2005 緻密薄膜形成方法および装置                                     (特願2005-035353) 2005年2月 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
80 2005 2010 ガラス材料の接着方法および装置     特開2006-104046                            (特願2005-251257) 2005/8/31 共同 村原正隆 村原正秀、村原正隆、 船津貴行、岡本義昭 岡本光学、    村原正隆 優先権主張出願⇒特願2004-264861 特許第4532371 (H22.6.18)
81 2005 2011 太陽光励起レーザー装置           特開2007-227406             (特願2005-338425) 2005/11/24 単独 村原正隆 村原正隆 岡本光学、 村原正秀、村原正隆 特許第4792279号 (H23.7.29)
82 2006 高密度光励起ファイバーレーザー装置   特開2007-299774           (特願2006-041870) 2006/2/20 単独 村原正隆 村原正隆 岡本光学、東工大
83 2006 審査請求 海洋資源エネルギー抽出・生産海洋工場 特開2007-331681             (特願2006-168279) 2006/6/19 共同 村原正隆 村原正隆、関和市 村原正隆、    関和市
84 2006 2011 海洋電気分解工場               特開2008-038673             (特願2006-211566) 2006/8/3 共同 村原正隆 村原正隆、関和市 村原正隆、    関和市 特許第4885641号 (H23.12.16)
85 2006 2012 太陽光励起レーザー装置           特開2008-066368           (特願2006-239990) 2006/9/5 共同 村原正隆 村原正隆、村原正秀、  岡本義昭 岡本光学、 村原正隆、村原正秀 特許第4867032号 (H24.2.1)
86 2006 審査請求 洋上浮体式風水車流体抽出発電設備    特開2008-063960            (特願2006-240059) 2006/9/5 共同 村原正隆 村原正隆、関和市 村原正隆、    関和市
87 2006 審査請求 風水車同心回転軸直接駆動型電気エネルギー抽出装置        (特願2006-240060) 特開2008-063961  2006/9/5 共同 村原正隆 村原正隆、関和市 村原正隆、    関和市
88 2006 非線形光学結晶の接着方法および素子製作装置           (特願2006-314061) 2006/11/21 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
89 2006 審査請求 太陽光・熱発電装置              特開2008-0130801              (特願2006-314062) 2006/11/21 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
90 2007 2012 白色光励起レーザー装置      特開2008-210999                    (特願2007-046478) 2007/2/27 共同 村原正隆 村原正隆、村原正秀、   小川公一、岡本義昭 岡本光学、 村原正隆、村原正秀 特許第4955419 号 (H24.3.23)
91 2007 国際出願 洋上電解・エタノール・野菜・養魚工場                  (特願2007-126324) PCT/JP2008/058500, May7,2008 2007/5/11 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 @中国 特許 第876024 (2011.12.7) A欧州特許認可⇒ドイツ、イギリス Bアメリカ 特許認可          
92 2007 光学部品の接着方法および素子製作装置                (特願2007-141625) 優先権主張出願⇒特願2006-314061 2007/5/29 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
93 2007 審査請求 光学部品の接着方法および素子製作装置  特開2009-009075               (特願2007-192117) 優先権主張出願⇒特願2006-141625 2007/7/24 単独 村原正隆 村原正隆 村原正隆
94 2009 公開前に2010-148813 (2010.6.30) & 2010-170330(2010.7.29) & 2010-180884 (2010.8.12)を出願してある 深海資源採掘・回収統合洋上工場 特許2009-22119 2009/2/3 単独 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所
95 2009 公開2011-102200(2011.5.26)  透明光酸化層薄膜形成方法 特許2009-256644 2009/11/10 共同 村原正隆 村原正隆、佐藤雄二 株式会社エム光・エネルギー研究所
96 2010 公開前に2011-202838 (2011.9.16) に出願 水素化金属の析出及び水素の製造方法 特許出願2010−52874 2010/3/10 共同 村原正隆 村原正隆、大河原 敏夫 株式会社エム光・エネルギー研究所
97 2010 公開2012-012974(2012.1.19)  風力エネルギー回収浮体船 特許 2010−148813 2010/6/30 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 2009-22119 (2009.2.3)の公開前に出願
98 2010 公開2012-030637(2012.2.16)  水中重量物の降下および浮上方法    2010−170330 2010/7/29 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 2009-22119 (2009.2.3)の公開前に出願
99 2010 公開2012-040454(2012.3.1)  海水の淡水化装置及び含水物の脱水方法 2010−180884 2010/8/12 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 2009-22119 (2009.2.3)の公開前に出願
100 2011 公開予定(2012.10) 気圧差を利用した脱水方法及び真水の回収装置 特願2011-66989 2011/3/25 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 鎌倉市助成
101 2011 公開予定(2013.3) 原子力発電所の海水冷却水の利用方法 特願2011-195990 2011/9/8 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所
102 2011 公開予定(2013.4) 電気分解による水素化金属の析出及び回収方法 特願2011-202838 2011/9/16 共同 村原正隆 村原正隆、大河原 敏夫 株式会社エム光・エネルギー研究所 2010-52874 (2010.3.10)の公開前に出願
103 2011 公開予定(2013.5) 原子力発電所の海水冷却水の利用方法 特願2011-226389 2011/10/14 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所
104 2012 公開予定(2014.9) 水中重量物の降下および浮上方法 特許2012-29287 2012/2/14 村原正隆 村原正隆 株式会社エム光・エネルギー研究所 2010-1703300 (2010.7.29)の公開前に出願
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  株式会社 エム光・エネルギー開発研究所   連絡先 E-mail: kabu.m.hikari@beetle.ocn.ne.jp  

≪特許は日本の資源≫出願 104件 (日本国特許43件、
                               国際特許4件
(米国、欧州、中国)) 

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