≪出版物≫ 村原正隆　書籍 及び 雑誌解説等

　　
 2011年11月15日発行 2010年1月30日発行  2007年12月25日発行  1986年3月25日発行  1983年8月1日発行 
著作・著書（全：64件）　
No. 業績 年度 大学区分
(細目)		 言語 タイトル キーワード 掲載誌名 巻号等 掲載
ページ		 発行元 発行年月 単著
共著		 代表者 共同
者数
1 2011 書籍 日本語 再生可能エネルギーを考える 　≪原発に有終の美を≫ 再生可能エネルギー、原発 パワー社 162 パワー社 2011年11月 単独 村原正隆 0
2 2011 解説 日本語 紫外線レーザやランプによる光表面改質 ＜プラスチックに紫外線を照射して材料表面に機能性を付与する＞ 光表面改質 光アライアンス Vol. 22, No. 8 19-26 日本工業出版 2011年8月 単独 村原正隆 0
3 2010 書籍 英語 Wind Power and Seawater Save Corn from Ethanol Production: A Marine Resources Recovery and Offshore Integrated Plant for Sodium Fuel, Fresh Water, Ethanol, Vegetable, and Fish Production with Wind Energy and Seawater 海水、風力エネルギー、ナトリウム Climate Change and Sustainable Development (edited by Ruth A. Reck) Chap-ter 19 215-221 Linton Atlantic Books, Ltd, UK & USA 2010年 共著 村原正隆 40
4 2008 解説 日本語 紫外線レーザーによる光表面改質　＜レーザーでプラスチック表面の分子を入れ替える＞ 光表面改質 光アライアンス Vol. 19, No. 1 pp.6-10 日本工業出版 2008年1月 単独 村原正隆 0
5 2007 解説 日本語 レーザーを用いた光表面改質 レーザー、エキシマランプ、表面改質 オプトロニクス 26巻、第12号 84-89 オプトロニクス社 2007年12月 単独 村原正隆 0
6 2007 書籍 日本語 “風力よ”エタノール化からトウモロコシを救え　≪風力発電による海洋資源回収と洋上工場≫ 持続可能社会 パワー社 178 パワー社 2007年12月 共著 村原正隆 2
7 2007 解説・ 解題 日本語 光学ガラスレンズの設計・形成加工ノウハウ集 石英ガラス、接着 技術情報協会 pp.3-11 ㈱技術情報協会 2007年1月 共著 村原正隆 20
8 2004 解説・ 解題 日本語 光表面改質 光表面改質 光技術総合事典 オプトロニクス社 2004年12月 共著 村原正隆 30
9 2004 解説・ 解題 日本語 表面改質と最近の材料からバイオまで 光表面改質、生体適合性、エキシマレーザー 光技術コンタクト Vol. 42 日本オプトメカトロニクス協会 2004年12月 単独 村原正隆 0
10 2003 辞典・ 事典 日本語 レーザー表面改質 表面改質,光化学反応,エキシマレーザー 光デバイス精密加工ハンドブック 303-307 株式会社　オプトロニクス社 2003年7月 単独 村原正隆 0
11 2003 辞典・ 事典 日本語 エキシマレーザーによる選択的表面改質 表面改質,エキシマレーザー,光化学反応 【有機，無機材料における】表面処理・改質の上手な方法とその評価 305-316 株式会社　技術情報協会 2004年3月 単独 村原正隆 0
12 2002 解説・ 解題 日本語 エキシマレーザーによるプラスチックの表面機能化と石英ガラスのＰＣＰ加工 エキシマレーザー,フッ素樹脂,ＰＣＰ加工 光技術コンタクト Vol. 40 8～13 社団法人メカトロニクス協会 2002年11月 単独 村原正隆 0
13 1999 その他 日本語 研究には、どんなレーザーが必要か？ エキシマレーザー,光子エネルギー,結合エネルギー 金属プレス Vol. 31, No. 4 5～7 日本金属プレス工業出版会 1999年4月 単独 村原正隆 0
14 1998 解説・ 解題 日本語 レーザでプラスチック表面の性質を変える プラスチック,表面改質,エキシマレーザー オプトニューズ 通巻109号, No. 1 41-43 財団法人　光産業技術振興協会 1999年1月 単独 村原正隆 0
15 1998 辞典・ 事典 日本語 光表面改質 表面改質,毛細管現象,光化学反応 光サイエンス辞典 218 オプトロ＝クス社 1998年11月 単独 村原正隆 0
16 1996 日本語 エキシマレーザーによるフッ素樹脂の光化学的表面改質―１― エキシマレーザ,フッ素樹脂,表面改質 Ｐｏｌｙ ｆｉｌｅ 高分子関連技術情報誌 342 55-63 大成社 1997年2月 単独 村原正隆 0
17 1996 日本語 エキシマレーザーによるフッ素樹脂の光化学的表面改質―２― エキシマレーザ,フッ素樹脂,表面改質 Ｐｏｌｙ ｆｉｌｅ 高分子関連技術情報誌 343 37-42 大成社 1997年3月 単独 村原正隆 0
18 1995 学術書 日本語 レーザによる加工法（エキシマレーザによる加工） エキシマレーザー,テフロン,表面改質 『薄膜作製応用ハンドブック』共著 557-567 （株）エヌ・ティー・エス 1995年11月 共同 村原正隆 132
19 1995 学術書 日本語 １０章 エキシマレーザー加工 レーザー工学,エキシマレーザー,フッ素樹脂 レーザー工学（池田正幸編）共著 97-114 株式会社オーム社 1995年12月 共同 村原正隆 1
20 1995 日本語 エキシマレーザーによるテフロンの表面改質 テフロン,エキシマレーザー,表面改質 光技術コーディネートジャーナル ＯＰＴＲＯＮＩＣＳ 169 121-125 オプトロニクス社 1996年1月 単独 村原正隆 0
21 1995 日本語 エキシマ光によるプラスチック表面への官能基置換と非線形性発現の可能性 ポリイミド,エキシマランプ,表面改質 Ｐｏｌｙｆｉｌｅ 33 385 31-33 ポリファイル 1996年3月 単独 村原正隆 0
22 1994 その他 日本語 ＳｉＣおよびＳｉＯ２のエッチング シリコンカーバイト,酸化シリコン,光エッチング 超精密生産技術大系 第２巻 実用技術（小林 昭 監修）共著 1193-1199 株式会社 フジ・テクノシステム 1994年8月 共同 村原正隆 157
23 1994 英語 Semiconductor film produced by depositing silicon on fluororesin substrate エキシマレーザー,ＣＶＤ,テフロン New Technology Japan Vol. 22, No. 1 22-23 JETRO 1994年4月 単独 村原正隆 0
24 1993 英語 Laser treatment for increasing bonding strength of fluororesins with epoxy resins fluororesin, epoxy resin, laser treatment Japan New Materials Report 82 7 The Japanese New Materials Industry 1993年4月 単独 村原正隆 0
25 1993 英語 Technique for bonding fluororesin and epoxy resin fluororesin, epoxy resin, excimer laser New Technology Japan 211 19 JETRO 1993年4月 単独 村原正隆 0
26 1993 英語 Coat steel with PTFE PTFE, epoxy, excimer laser Advanced Coatings and Surface Technology 67 8 Technical Insights, Inc. 1993年7月 単独 村原正隆 0
27 1993 英語 Photochemical modification of fluorocarbon resin to generate adhesive property fluorocarbon, modification, adhesive property Lambda Highlights 43 pp.1-3 LAMBDA PHYSIK 1994年1月 単独 村原正隆 0
28 1993 日本語 水や油でフッ素樹脂を接着 エキシマレーザーの光分解・再結合を利用 フッ素樹脂,接着,エキシマレーザー 日経マテリアル＆テクノロジー 137 pp.12-13 日経ＢＰ社 1994年1月 単独 村原正隆 0
29 1992 学術書 日本語 光ＣＶＤ 光ＣＶＤ,光化学反応,レーザー マイクロメカニカルシステム＜実用化技術総覧＞（樋口俊朗、生田幸士 編） 272-282 フジテクジ・システム社 1992年4月 共著 村原正隆 10
30 1992 英語 Resistless pattern etching with excimer laser beam フロンガス,熱酸化シリコン,エキシマレーザー New Technology Japan 19- JETRO 1992年6月 単独 M. Murahara 0
31 1992 日本語 シリコン半導体絶縁膜をレジストレスでレーザーエッチングする研究 Ｓｉ０２,フロンガス,エキシマレーザー 総研ニュース 40 -12 東海大学総合研究機構 1992年6月 単独 村原正隆 0
32 1992 日本語 ＣＬＥＯ’９２報告 ＣＬＥＯ半径３０マイル オレンジカウンテイー,サン・フワン・カスピトラーノ,ラグナビーチ Ｏ プラスＥ 153 100-106 新技術コミュニケーションズ社 1992年8月 単独 村原正隆 0
33 1992 日本語 ＣＬＥＯ’９２報告 レーザープロセッシング分野 レーザーデポジシヨン,レーザーエッチング,光化学 Ｏ プラスＥ 153 81-84 新技術コミュニケーションズ社 1992年8月 単独 村原正隆 0
34 1991 日本語 もう１つのＣＬＥＯは日没から ＣＬＥＯ,ソフトシェル,米英戦争 Ｃ ｐｌｕｓ Ｅ 141 117-121 新技術コミュニケーションズ 1991年8月 単独 村原正隆 0
35 1991 日本語 レーザー工学 ― 産業の魔法の杖 望星 54-59 東海教育研究所 1991年8月 単独 村原正隆 0
36 1991 その他 英語 Laser modification of inner walls of artificial teflon blood vessels excimer laser, teflon tube, modification New Technology Japan 194 14-15 JETRO 1991年7月 単独 村原正隆 0
37 1990 日本語 「エキシマレーザに出世街道を走ってもらおう！」 エキシマレーザー,半導体,光化学加工 レーザー新報 １９９０年６月号 187 pp.10-11 レーザー新報 1990年6月 単独 村原正隆 0
38 1990 日本語 リソグラフィー研究の次に来るものはレーザーＣＶＤ エキシマレーザー,リソグラフィー,ＣＶＤ レーザー新報 １９９０年７月号 191 -18 レーザー新報 1990年7月 単独 村原正隆 0
39 1990 日本語 一枚の写真 レーザースノー,レーザーＣＶＤ,２光子吸収分解 Ｏ ｐｌｕｓ Ｅ 1352 49-50 新技術コミュニケーションズ 1991年2月 単独 村原正隆 0
40 1989 論文集 英語 Excimer laser induced selective deposition and etching of semiconductor films <deposition of crystalline Si and resistless etching &rt; excimer laser, Si, SiC The Science of Super Conductivity and New Materials Vol. 18 253-268 World Scientific, Singapore 1989年6月 共著 M. Murahara 1
41 1989 日本語 エキシマレーザーに出世街道を走ってもらうためには リソグラフィー,光反応メカニズム,ドライエッチング Ｏ プラス Ｅ 123 118-128 新技術コミュニケーションズ 1990年2月 単独 村原正隆 0
42 1988 日本語 エキシマレーザとその加工 エキシマレーザ,半導体プロセス,光化学反応 光産業技術振興協会 第３回レーザスクール 光産業技術振興協会 1988年10月 単独 村原正隆 0
43 1987 学術書 日本語 最近のエキシマレーザー応用技術と国内の半導体研究の動向 エキシマレーザー,ＣＶＤ,半導体膜 エキシマレーザーの開発とその応用技術・例（渡部俊太郎 監） 60-92 応用技術出版ＫＫ 1987年7月 共同 村原正隆 1
44 1987 その他 日本語 ＣＶＤ エキシマレーザー,レーザーＣＶＤ,２光子分解 レーザ加工技術実用マニアル （小林 昭編） 365-372 新技術開発センター 1987年9月 単独 村原正隆 0
45 1987 その他 日本語 レーザーＣＶＤによる薄膜形成 レーザーＣＶＤ,エキシマレーザー,熱ＣＶＤ 光技術の半導体製造への応用 88-98 オプトロニクス社 1987年9月 単独 村原正隆 0
46 1987 その他 日本語 分子量を上げたＰＭＭＡレジスト 超高分子量,エキシマレーザー,ＰＭＭＡレジスト 日経ニューマテリアル 31 66 日経マグロウヒル社 1987年8月 単独 村原正隆 0
47 1986 学術書 日本語 光ＣＶＤと今後の展開 エキシマレーザー,レーザーＣＶＤ,シリコン半導体 光エレクトロニクス材料マニュアル 530-541 オプトロニクス社 1986年9月 単独 村原正隆 0
48 1986 学術書 日本語 電気工学概論 電気工学概論（松元 崇・金古喜代治編） 1-266 東海大学出版会 1987年3月 共著 村原正隆
 9
49 1986 日本語 エキシマレーザーによる光ＣＶＤ エキシマレーザー,光ＣＶＤ,半導体膜 化学工業 ６月 27-34 化学工業社 1986年6月 単独 村原正隆 0
50 1986 日本語 エキシマレーザーによる電子材料プロセスへの応用（半導工学への可能性） エキシマレーザー,半導体,光化学反応 Ｏ ｐｌｕｓ Ｅ ６月 65-86 新技術コミュニケーションズ 1986年6月 単独 村原正隆 0
51 1986 日本語 エキシマレーザーでダイヤモンドは作れるか エキシマレーザー,メタンガス,ダイヤモンド 産研ニュース 東海大学産業科学研究所 1986年11月 単独 村原正隆 0
52 1985 学術書 日本語 エキシマレーザ最先端応用技術 エキシマレーザー,光化学反応,新素材 エキシマレーザ最先端応用技術 監修 豊田浩一・村原正隆 シーエムシー出版 1986年3月 共同 村原正隆 25
53 1985 日本語 レーザーＣＶＤによる薄膜形成 エキシマーレーザー,ＣＶＤ,薄膜 オプトロニクス 44 53-62 オプトロニクス社 1985年8月 単独 村原正隆 1
54 1985 日本語 エキシマーレーザーは機能性材料を作れるか（１） エキシマーレーザー,機能材料,アルコール 機能材料 5(11) 48-59 シーエムシー 1985年10月 単独 村原正隆 1
55 1985 日本語 エキシマレーザーは機能材料を作れるか（第２回） エキシマレーザー,同位体分離,セラミック 機能材料 １２月 38-49 シーエムシー（ＣＭＣ） 1985年12月 単独 村原正隆 0
56 1984 学術書 日本語 エキシマーレーザーによる高分子材料の加工 エキシマーレーザー,光化学,高分子材料 光機能性高分子の合成と応用市村国宏（監修） ＣＭＣ出版 1984年10月 共同 村原正隆 2
57 1983 日本語 エキシマーレーザーで何ができるか エキシマーレーザー,光化学反応,創成期の地球 Ｏ ｐｌｕｓ Ｅ 45 102-112 新技術コミュニケーション 1983年8月 共著 村原正隆 2
58 1983 日本語 エキシマーレーザによる加工 エキシマーレーザー,エッチング,光化学 機械と工具 28(1) 70-76 工業調査会 1984年1月 単独 村原正隆 1
59 1982 その他 日本語 レーザー利用の新しい凸版製版法 アルゴンレーザー,エキシマーレーザー,ＣＯ２レーザー 印刷情報 42 10 pp.10-17 印刷情報 1982年10月 単独 村原正隆 1
60 1979 日本語 単体露出計の小型化への提言（１） 露出計,ＴＴＬ,オペアンプ 写真工業 37(362) 72-75 写真工業出版社 1979年11月 単独 村原正隆 1
61 1979 日本語 単体露出計の小型への提言（２） フォトダイオ－ド,アナログスィッチ,ＬＥＤ 写真工業 37(364) 写真工業出版社 1979年12月 単独 村原正隆 1
62 1977 その他 日本語 立体写真再生法と装置の製作 立体写真,カメラ,ミラー 写真工業 35(325) 72-75 写真工業出版社 1977年8月 単独 村原正隆 1
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